特許

J-GLOBAL ID：200903031562383334

三次元構造物形成方法および露光装置

発明者： 上田 稔 ,  岡田 訓明
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (3件)： 西教 圭一郎 ,  杉山 毅至 ,  廣瀬 峰太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-116003
公開番号（公開出願番号）：特開2004-334184
出願日： 2004年04月09日
公開日（公表日）： 2004年11月25日
要約：

【課題】 所望の三次元構造物を高い精度で形成することができる三次元構造物形成方法および露光装置を提供する。【解決手段】 基板の厚み方向一端面部に、感光性材料から成り、形成すべき三次元構造物の厚み寸法に予め定める嵩上げ寸法を加算した厚み寸法を有する感光性材料層を形成する第1工程と、感光性材料層全体にわたって、予め定める最小光量以上の光量で露光光を照射して、三次元構造物を形成する第2工程とを有する。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

基板に感光性材料から成る層を形成し、この層を少なくとも露光することで三次元構造物を形成する三次元構造物形成方法であって、 基板の厚み方向一端面部に、感光性材料から成り、形成すべき三次元構造物の厚み寸法に予め定める嵩上げ寸法を加算した厚み寸法を有する感光性材料層を形成する第1工程と、 感光性材料から成る感光性材料層全体にわたって、予め定める最小光量以上の光量で露光光を照射して、三次元構造物を形成する第2工程とを有することを特徴とする三次元構造物形成方法。

IPC (5件)：

G03F7/20 ,  B81C1/00 ,  G02B3/00 ,  G02F1/1335 ,  G03F1/08

FI (5件)：

G03F7/20 501 ,  B81C1/00 ,  G02B3/00 A ,  G02F1/1335 ,  G03F1/08 G

Fターム (19件)：

2H091FA29 ,  2H091FB04 ,  2H091FC10 ,  2H091FC23 ,  2H091FC26 ,  2H091FC29 ,  2H091LA30 ,  2H095BA12 ,  2H095BC24 ,  2H097AA03 ,  2H097AA06 ,  2H097BB01 ,  2H097EA01 ,  2H097FA02 ,  2H097FA06 ,  2H097GB00 ,  2H097LA12 ,  2H097LA15 ,  2H097LA17

引用特許：

出願人引用 (2件)

• マイクロレンズの製造方法および装置
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平6-513119   出願人：ロッキードミサイルズアンドスペースカンパニーインコーポレイテッド
• レジストパターン形成方法とそれを用いた露光装置およびそれにより作製したレジストパターンとマイクロレンズ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-080817   出願人：株式会社リコー

審査官引用 (5件)

• マイクロレンズの製造方法、物品の製造方法、レジスト層の加工方法、および、マイクロレンズ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-300512   出願人：株式会社ニコン
• フォトマスク、および該フォトマスクを用いたマイクロレンズ作成方法、ならびに該マイクロレンズ作成方法により作成したマイクロレンズ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-126321   出願人：株式会社リコー
• レジストパターン形成用のマスク、レジストパターンの形成方法およびレンズの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-311002   出願人：沖電気工業株式会社
• マイクロレンズの製造方法および装置
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平6-513119   出願人：ロッキードミサイルズアンドスペースカンパニーインコーポレイテッド
• レジストパターン形成方法とそれを用いた露光装置およびそれにより作製したレジストパターンとマイクロレンズ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-080817   出願人：株式会社リコー