特許
J-GLOBAL ID：200903073574901238
マイクロレンズの製造方法、物品の製造方法、レジスト層の加工方法、および、マイクロレンズ
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三品 岩男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-300512
公開番号（公開出願番号）：特開2003-107721
出願日： 2001年09月28日
公開日（公表日）： 2003年04月09日
要約：
【要約】【課題】高解像度で所望の形状のマイクロレンズを製造することのできる方法を提供する。【解決手段】主平面方向に複数段階の透過率分布を有するグレースケールマスク50を通してレジスト層61を露光した後、現像することにより、所望のマイクロレンズに対応した立体形状に前記レジスト層を加工し、レジスト層をエッチングマスクとして、レンズ基材をエッチングする。露光工程は、予め定めた波長の光をグレースケールマスク50に照射し、グレースケールマスク50を透過した光を集光光学系102により集光してレジスト層61に照射する。露光の際、レジスト層61の上面を、集光光学系102の焦点面からデフォーカスする。デフォーカス量は、前ピン側の場合10μm以上、後ピン側の場合5μm以上である。
請求項（抜粋）：
複数段階の透過率分布を有するグレースケールマスクを通してレジスト層を露光する露光工程と、露光後の前記レジスト層を現像する現像工程と、前記露光および現像工程により所望のマイクロレンズに対応した立体形状に加工された前記レジスト層をエッチングマスクとして、レンズ基材をエッチングするエッチング工程とを含み、前記露光工程は、前記グレースケールマスクの投影像を投影光学系により前記レジスト層に照射し、該照射の際に前記レジスト層の上面を、前記投影光学系の焦点面から予め定めたデフォーカス量だけ前記投影光学系側または前記投影光学系から離れた側に配置したことを特徴とするマイクロレンズの製造方法。
IPC (5件)：
G03F 7/20 501
, G02B 3/00
, G03F 1/08
, H01L 27/14
, H04N 5/335
G03F 7/20 501
, G02B 3/00
, G03F 1/08 D
, H04N 5/335 V
, H01L 27/14 D
2H095BB02
, 2H095BB32
, 2H095BB33
, 2H095BC09
, 2H097BA01
, 2H097BA02
, 2H097BA06
, 2H097BB01
, 2H097CA12
, 2H097FA02
, 2H097JA02
, 2H097JA03
, 2H097JA04
, 2H097LA15
, 4M118EA20
, 4M118GD06
, 4M118GD07
, 5C024CX37
, 5C024CY47
, 5C024EX43
