洗浄用機能水製造方法及び製造装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：赤塚賢次 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-213547
公開番号（公開出願番号）：特開2000-354729
出願日： 1999年07月28日
公開日（公表日）： 2000年12月26日
要約：

【要約】【課題】電子部品部材類の洗浄において、汚染微粒子の再付着を防止すると共に、還元性機能水の性能を損なうことのない静電気帯電防止能を有する洗浄用機能水の製造方法及び製造装置を提供すること。【解決手段】超純水製造装置1、水素ガス溶解槽2、炭酸ガス又はアンモニアガスを溶解して比抵抗0.03〜5.0MΩ・cmに調整する比抵抗調整槽3及び洗浄槽4を有する洗浄用機能水製造装置10及びこれを使用する製造方法。

請求項（抜粋）：

超純水を、水素ガス溶解工程、炭酸ガス又はアンモニアガスを溶解して比抵抗0.03〜5.0MΩ・cmに調整する比抵抗調整工程に、この順序又はこの逆の順序で順次供給することを特徴とする洗浄用機能水製造方法。

IPC (2件)：

B01D 53/22 , B01F 1/00

FI (2件)：

B01D 53/22 , B01F 1/00 A

Fターム (19件)：

4D006GA35 , 4D006KA01 , 4D006KA72 , 4D006KB11 , 4D006KB14 , 4D006KB17 , 4D006KB30 , 4D006KE07Q , 4D006KE08Q , 4D006KE19P , 4D006KE19Q , 4D006KE19R , 4D006MA01 , 4D006PB64 , 4D006PB66 , 4D006PB70 , 4D006PC01 , 4G035AA01 , 4G035AE13

引用特許：

審査官引用 (9件)

洗浄方法及び半導体装置の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-194434 出願人：富士通株式会社
電子部品部材類の洗浄方法及び洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-237294 出願人：オルガノ株式会社, 株式会社フロンテック
特開平4-206724

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