特許

J-GLOBAL ID：200903031688767251

露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法

発明者： 小林 直行 ,  谷元 昭一 ,  水野 恭志 ,  白石 健一 ,  中野 勝志 ,  大和 壮一
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (4件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  西 和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-274330
公開番号（公開出願番号）：特開2007-059929
出願日： 2006年10月05日
公開日（公表日）： 2007年03月08日
要約：

【課題】投影光学系と液体とを介して基板にパターンを投影して露光する際、不要な液体を除去して所望のデバイスパターンを基板上に形成可能な露光装置を提供する。【解決手段】露光装置は、投影光学系と液体とを介して基板上に露光光を照射することによって、基板を露光する。露光装置は、投影光学系の像面側付近に配置される部品の表面状態を検出する検出装置を備えている。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

投影光学系と液体とを介して基板上に露光光を照射することによって、前記基板を露光する露光装置において、 前記投影光学系の像面側付近に配置される部品の表面状態を検出する検出装置を備えたことを特徴とする露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  H01L 21/304 ,  B08B 5/00

FI (6件)：

H01L21/30 503G ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 515D ,  H01L21/304 645Z ,  H01L21/304 648G ,  B08B5/00 Z

Fターム (11件)：

3B116AA47 ,  3B116BB62 ,  3B116CC05 ,  3B116CD41 ,  5F046AA18 ,  5F046CB01 ,  5F046CB12 ,  5F046CB26 ,  5F046CC01 ,  5F046DB01 ,  5F046DC10

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 国際公開第99/49504号パンフレット
  

審査官引用 (4件)

• 投影光学系検査装置及び同装置を備えた投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-083724   出願人：株式会社ニコン
• 液浸式投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-296518   出願人：キヤノン株式会社
• 回転乾燥方法および回転乾燥装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-004575   出願人：ソニー株式会社
• 特開昭63-073628