特許

J-GLOBAL ID：200903031744150726

ポジ型感光性ポリイミド組成物及び絶縁膜

発明者： 友井 正男 ,  飯島 孝雄 ,  板谷 博 ,  松本 俊一
出願人/特許権者： 株式会社ピーアイ技術研究所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-040948
公開番号（公開出願番号）：特開平11-202488
出願日： 1998年01月16日
公開日（公表日）： 1999年07月30日
要約：

【要約】【目的】 溶剤可溶のポジ型感光性ポリイミド組成物の提供。【構成】 ポリイミド主鎖中に、芳香族ジアミンの一成分がジアミノ安息香酸のテトラヒドロピラニルエステル、又はニトロベンジルエステルを含有する溶剤可溶のポジ型感光性ポリイミド組成物であり、好ましくは、このジアミノ安息香酸のエステルが、3、5-ジアミノ安息香酸のテトラヒドロ-2H-ピラニルエステル、又は、5-メトキシ-テトラヒドロ-2H-エステル、又は、2-ニトロベンジルエステルであるポジ型感光性ポリイミド組成物及び画像の形成法。

請求項（抜粋）：

ポリイミド主鎖中に、芳香族ジアミンの一成分がジアミノカルボン酸のテトラヒドロピラニルエステル、又はニトロベンジルエステルを含有する溶剤可溶のポジ型感光性ポリイミド組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/037 ,  C08G 73/10 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/022

FI (4件)：

G03F 7/037 ,  C08G 73/10 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/022

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 化学増幅型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-096173   出願人：協和醗酵工業株式会社
• 耐熱性感光材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-151966   出願人：日立化成工業株式会社
• 特開平1-057571
  
• 電着用ポリイミド組成物及び塗膜物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-264353   出願人：大日本塗料株式会社, 有限会社ピーアイ材料研究所
• 耐熱性ポジ型フオトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-065634   出願人：日東電工株式会社