特許
J-GLOBAL ID：200903031756601766

光露光装置及びフォトレジストパターンの形成方法

発明者：
吉田 賢司

吉田 賢司 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (1件)： 大胡 典夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-061702
公開番号（公開出願番号）：特開2000-260697
出願日： 1999年03月09日
公開日（公表日）： 2000年09月22日
要約：
【要約】【課題】 製品ロットにリンクしての露光条件やフォーカス条件の管理が行える光露光装置及びフォトレジストパターンの形成方法を提供する。【解決手段】 光源2の光軸Lz上にレチクル3、縮小投影レンズ5、フォトレジストが塗布されたウェハ6を載置するウェハステージ7を順に配置し、制御部8によるフォーカス条件の制御、露光条件の制御のもとにフォトレジストの表面に設計パターンを投影して所定のフォトレジストパターンを形成するもので、制御部8が、形成されたフォトレジストパターン寸法と設定寸法との差と、予め露光条件及びフォーカス条件を変動させて得たフォトレジストパターンのトップ形状とボトム形状の形状変化値に基づいて算出されたフォーカス条件及び露光条件のもとに、次回以降のフォトレジストパターンの形成制御を行う。
請求項（抜粋）：
光軸上にレチクル、光学レンズ、被投射ステージの順に配置し、制御部によるフォーカス条件の制御、露光条件の制御のもとに前記光学レンズを介して前記被投射ステージに置かれた所定厚のフォトレジストの表面に前記レチクルに形成されている設計パターンを投影して所定のフォトレジストパターンを形成する光露光装置において、前記制御部が、形成されたフォトレジストパターン寸法と設定寸法との差と、予め求めたフォーカス制御条件及び露光制御条件とから算出されたフォーカス条件及び露光条件のもとに、次回以降の前記フォトレジストパターンの形成制御を行うことを特徴とする光露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/207
FI (3件)：
H01L 21/30 526 A ,  G03F 7/207 H ,  H01L 21/30 516 A
Fターム (5件)：
5F046DA02 ,  5F046DA12 ,  5F046DA30 ,  5F046DB10 ,  5F046DD03
引用特許：
審査官引用 (3件)

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