特許
J-GLOBAL ID:200903031774729079

レジスト画像形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 長谷川 曉司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-238694
公開番号(公開出願番号):特開2005-122122
出願日: 2004年08月18日
公開日(公表日): 2005年05月12日
要約:
【課題】 青紫レーザー感光性組成物を青紫レーザー光により露光し、現像処理してレジスト画像を形成するにおいて、高解像性を発現するレジスト画像形成方法を提供する。【解決手段】 被加工基板上に青紫レーザー感光性組成物層を有するレジスト画像形成材の該青紫レーザー感光性組成物層を青紫レーザー光により露光し、現像処理してレジスト画像を形成するにおいて、像面光量を20〜400mW/cm2 とし、且つ露光量を1〜20mJ/cm2 として露光するレジスト画像形成方法。 【選択図】なし
請求項(抜粋):
被加工基板上に青紫レーザー感光性組成物層を有するレジスト画像形成材の該青紫レーザー感光性組成物層を青紫レーザー光により露光し、現像処理してレジスト画像を形成するにおいて、像面光量を20〜400mW/cm2 とし、且つ露光量を1〜20mJ/cm2 として露光することを特徴とするレジスト画像形成方法。
IPC (6件):
G03F7/20 ,  G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/028 ,  G03F7/033 ,  H01L21/027
FI (7件):
G03F7/20 505 ,  G03F7/004 503Z ,  G03F7/027 502 ,  G03F7/028 ,  G03F7/033 ,  H01L21/30 529 ,  H01L21/30 502R
Fターム (30件):
2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BC32 ,  2H025BC42 ,  2H025BC51 ,  2H025CA01 ,  2H025CA27 ,  2H025CA28 ,  2H025CA41 ,  2H025CB13 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  2H097AA03 ,  2H097BB01 ,  2H097BB02 ,  2H097CA17 ,  2H097FA02 ,  2H097LA09 ,  2H097LA10 ,  2H097LA12 ,  5F046BA07 ,  5F046CA03 ,  5F046DA01 ,  5F046DA02
引用特許:
審査官引用 (8件)
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