特許
J-GLOBAL ID:200903031774729079
レジスト画像形成方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
長谷川 曉司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-238694
公開番号(公開出願番号):特開2005-122122
出願日: 2004年08月18日
公開日(公表日): 2005年05月12日
要約:
【課題】 青紫レーザー感光性組成物を青紫レーザー光により露光し、現像処理してレジスト画像を形成するにおいて、高解像性を発現するレジスト画像形成方法を提供する。【解決手段】 被加工基板上に青紫レーザー感光性組成物層を有するレジスト画像形成材の該青紫レーザー感光性組成物層を青紫レーザー光により露光し、現像処理してレジスト画像を形成するにおいて、像面光量を20〜400mW/cm2 とし、且つ露光量を1〜20mJ/cm2 として露光するレジスト画像形成方法。 【選択図】なし
請求項(抜粋):
被加工基板上に青紫レーザー感光性組成物層を有するレジスト画像形成材の該青紫レーザー感光性組成物層を青紫レーザー光により露光し、現像処理してレジスト画像を形成するにおいて、像面光量を20〜400mW/cm2 とし、且つ露光量を1〜20mJ/cm2 として露光することを特徴とするレジスト画像形成方法。
IPC (6件):
G03F7/20
, G03F7/004
, G03F7/027
, G03F7/028
, G03F7/033
, H01L21/027
FI (7件):
G03F7/20 505
, G03F7/004 503Z
, G03F7/027 502
, G03F7/028
, G03F7/033
, H01L21/30 529
, H01L21/30 502R
Fターム (30件):
2H025AB15
, 2H025AB16
, 2H025AB17
, 2H025AC01
, 2H025AC08
, 2H025AD01
, 2H025BC32
, 2H025BC42
, 2H025BC51
, 2H025CA01
, 2H025CA27
, 2H025CA28
, 2H025CA41
, 2H025CB13
, 2H025CB14
, 2H025CB16
, 2H025FA03
, 2H025FA17
, 2H097AA03
, 2H097BB01
, 2H097BB02
, 2H097CA17
, 2H097FA02
, 2H097LA09
, 2H097LA10
, 2H097LA12
, 5F046BA07
, 5F046CA03
, 5F046DA01
, 5F046DA02
引用特許:
審査官引用 (8件)
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平版印刷版の再生方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-382284
出願人:三菱化学株式会社, 三菱重工業株式会社
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特開昭63-181318
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特開昭63-181318
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