特許
J-GLOBAL ID：200903031827324866
基板処理装置および方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-195683
公開番号（公開出願番号）：特開平11-040642
出願日： 1997年07月22日
公開日（公表日）： 1999年02月12日
要約：
【要約】【課題】 アームの位置ずれを生じることなく搬送アームの汚染箇所の清掃を行うことができる基板処理装置および方法を提供する。【解決手段】 基板搬送ロボットTRは、インデクサINDから基板を受け取り、所定の処理手順に従って各処理部間で基板の循環搬送を行う。基板は搬送アームARに保持されて各処理部との間で受け渡しが行われるが、スピンコータSCなどの薬液を使用する処理部から基板を受け取ると、搬送アームARと当該基板との接触部分に薬液が付着して汚染されることがある。このような場合、搬送アームARを紫外線照射部UVに挿入し、汚染箇所に紫外線を照射してその汚染物質を酸化・除去する。搬送アームに対して物理的な力を作用させることがないため、アームの位置ずれを生じることなく搬送アームの汚染箇所の清掃を行うことができる。
請求項（抜粋）：
所定の処理部間で基板の搬送を行う基板搬送装置を有する基板処理装置であって、少なくとも前記基板搬送装置の搬送アームの前記基板との接触部分に紫外線を照射することで洗浄を行う紫外線照射手段を備えることを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/68
, H01L 21/304 341
H01L 21/68 A
, H01L 21/304 341 D
