特許
J-GLOBAL ID：200903031913277641
X線投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-073536
公開番号（公開出願番号）：特開平7-283116
出願日： 1994年04月12日
公開日（公表日）： 1995年10月27日
要約：
【要約】【目的】 物体側(マスク4側)及び像側(ウェファー7側)の両方でテレセントリックな光学系を使用することが可能なX線投影露光装置を提供すること。【構成】 少なくとも、X線源2と、該X線源2から発するX線を反射型マスク4上に照射する照明光学系3と、該マスク4上に形成されたパターンの像をウェファー7上に投影結像する投影結像光学系6とからなるX線投影露光装置において、前記照明光学系3からのX線の主光線を前記反射型マスク4の表面に垂直入射させ、かつ、前記反射型マスク4で垂直反射したX線の主光線を前記投影結像光学系6へ、該光学系6の光軸と平行に入射させるX線ビームスプリッター1を設けたことを特徴とするX線投影露光装置。
請求項（抜粋）：
少なくとも、X線源と、該X線源から発するX線を反射型マスク上に照射する照明光学系と、該マスク上に形成されたパターンの像をウェファー上に投影結像する投影結像光学系とからなるX線投影露光装置において、前記照明光学系からのX線の主光線を前記反射型マスクの表面に垂直入射させかつ、前記反射型マスクで垂直反射したX線の主光線を前記投影結像光学系へ、該光学系の光軸と平行に入射させるX線ビームスプリッターを設けたことを特徴とするX線投影露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 503
, G03F 7/20 521
