特許
J-GLOBAL ID：200903032082867761
垂直磁気記録媒体の製造方法及び垂直磁気記録媒体
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
谷 義一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-153060
公開番号（公開出願番号）：特開2003-346333
出願日： 2002年05月27日
公開日（公表日）： 2003年12月05日
要約：
【要約】【課題】 加熱成膜しても充分な磁気特性を有する垂直磁気記録媒体を得ること。【解決手段】 非磁性基体1上に、軟磁性裏打ち層2、下地層3、非磁性中間層4、磁気記録層5、保護膜6、液体潤滑材層7を順次積層して垂直記録媒体を製造する垂直磁気記録媒体の製造方法であって、磁気記録層5の成膜において、TaBまたはCrCを磁性材料に加えたグラニュラー材料を原材料として使用する。これによって、DCスパッタリングによる成膜が可能となり、加熱下で高い磁気特性が得られるようになる。
請求項（抜粋）：
非磁性基体上に、軟磁性裏打ち層、下地層、中間層、磁気記録層、保護膜、液体潤滑層を順次積層して垂直記録媒体を製造する垂直磁気記録媒体の製造方法であって、前記磁気記録層の成膜において、TaBを磁性材料に加えたグラニュラー材料を原材料として使用することを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (14件)：
5D006BB01
, 5D006BB06
, 5D006BB07
, 5D006DA03
, 5D006DA08
, 5D006EA03
, 5D006FA09
, 5D112AA05
, 5D112AA24
, 5D112BB01
, 5D112BB06
, 5D112FA04
, 5D112FB02
, 5D112FB26
