特許
J-GLOBAL ID：200903032225166689

セラミックスの洗浄方法および高清浄性セラミックス

発明者：
大見 忠弘

大見 忠弘 について

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後藤 哲也

後藤 哲也 について

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岸 幸男

岸 幸男 について

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大滝 浩通

大滝 浩通 について


出願人/特許権者：
大見 忠弘

大見 忠弘 について

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株式会社日本セラテック

株式会社日本セラテック について


代理人 (1件)： 池田 憲保
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-098260
公開番号（公開出願番号）：特開2005-279481
出願日： 2004年03月30日
公開日（公表日）： 2005年10月13日
要約：
【課題】従来洗浄では歩留まりに大きく影響するパーティクル、金属成分の十分な洗浄除去が困難であった。【解決手段】通常の製造工程で製造されたセラミックス製品に対し、各種機能水をベースにした高清浄洗浄を施すことにより、半導体および液晶製造装置用部材に適したセラミックス材料が得られる。即ち、上記した高清浄洗浄により、低パーティクル、低金属汚染となる高清浄セラミックスが得られ、セラミックスに起因するパーティクル、金属汚染の低減、並びに、高歩留まりが達成される。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
高清浄スポンジまたはブラシによるワイピング、脱脂液による超音波洗浄、有機溶剤での浸析洗浄、オゾン水による超音波洗浄、SPM洗浄およびHF/HNO3洗浄のうちの少なくとも一つを行う前洗浄工程と、オゾン水による洗浄工程と、pHをアルカリ性に制御した水素を含有する純水による超音波洗浄工程と、HF、SPM、HPM、HNO3/HFから選ばれる少なくとも一つを用いた洗浄工程と、水素を含有する純水、オゾン水、超純水から選ばれる1種を用いた超音波洗浄工程とを含むことを特徴とするセラミックス部材の洗浄方法。
IPC (5件)：
B08B7/04 ,  B08B3/00 ,  B08B3/08 ,  B08B3/12 ,  C04B41/91
FI (5件)：
B08B7/04 A ,  B08B3/00 ,  B08B3/08 A ,  B08B3/12 A ,  C04B41/91 Z
Fターム (20件)：
3B116AA46 ,  3B116AB01 ,  3B116BA02 ,  3B116BB01 ,  3B116BB83 ,  3B116BC01 ,  3B116CA01 ,  3B201AA46 ,  3B201AB01 ,  3B201BA02 ,  3B201BB01 ,  3B201BB83 ,  3B201BB93 ,  3B201BB94 ,  3B201BB96 ,  3B201BB99 ,  3B201BC01 ,  3B201CA01 ,  3B201CB11 ,  3B201CC21
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (4件)
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