特許
J-GLOBAL ID：200903097129023448

電子材料の洗浄方法

発明者：
塚本 和巳

塚本 和巳 について

, 
森田 博志

森田 博志 について


出願人/特許権者：
栗田工業株式会社

栗田工業株式会社 について


代理人 (1件)： 内山 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-162206
公開番号（公開出願番号）：特開2001-345301
出願日： 2000年05月31日
公開日（公表日）： 2001年12月14日
要約：
【要約】【課題】CMP後の洗浄工程において、濃厚な薬液や毒物指定を受けている薬品を使うことなく、金属及び微粒子を同時に、短時間で、安価に、効果的に被洗浄物から除去することができる汎用性の高い電子材料の洗浄方法を提供する。【解決手段】CMPを行った後の電子材料の洗浄方法であって、水素、酸素又は希ガスを溶解した45°C以上の超純水を洗浄液とし、この洗浄液に10kHz〜3MHzの超音波を照射しながら洗浄することを特徴とする電子材料の洗浄方法。
請求項（抜粋）：
CMPを行った後の電子材料の洗浄方法であって、水素、酸素又は希ガスを溶解した45°C以上の超純水を洗浄液とし、この洗浄液に10kHz〜3MHzの超音波を照射しながら洗浄することを特徴とする電子材料の洗浄方法。
IPC (6件)：
H01L 21/304 642 ,  H01L 21/304 622 ,  H01L 21/304 647 ,  B08B 3/08 ,  B08B 3/10 ,  B08B 3/12
FI (6件)：
H01L 21/304 642 E ,  H01L 21/304 622 Q ,  H01L 21/304 647 Z ,  B08B 3/08 Z ,  B08B 3/10 Z ,  B08B 3/12 A
Fターム (8件)：
3B201AA03 ,  3B201AB34 ,  3B201BB21 ,  3B201BB82 ,  3B201BB83 ,  3B201BB93 ,  3B201CB01 ,  3B201CC21
引用特許：
審査官引用 (6件)
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