特許
J-GLOBAL ID：200903032326931874
高純度溶融シリカガラスの非多孔性ボディの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
柳田 征史 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-146128
公開番号（公開出願番号）：特開平9-002835
出願日： 1996年06月07日
公開日（公表日）： 1997年01月07日
要約：
【要約】【課題】 高純度溶融シリカガラスに、248 nmのエキシマーレーザへの長時間に亘る暴露に関連する光損傷に対する抵抗性を付与する。【解決手段】 炎加水分解または酸化による熱分解によりSiO2 に転化できる、蒸気形態にあるケイ素含有化合物を含有するガス流を製造する。このガス流を燃焼バーナーの炎中に通して、溶融SiO2 の非晶粒子を形成する。非晶粒子を基体上に付着させ、還元雰囲気に暴露する。非晶粒子の付着物を非多孔性ボディに固結するために前記還元雰囲気の温度を上昇させる。
請求項（抜粋）：
高純度溶融シリカガラスの非多孔性ボディを製造する方法であって、a) 炎加水分解または酸化による熱分解によりSiO2 に転化できる、蒸気形態にあるケイ素含有化合物を含有するガス流を製造し、b) 該ガス流を燃焼バーナーの炎中に通して、溶融SiO2 の非晶粒子を形成し、c) 該非晶粒子を基体上に付着させ、d) 該非晶粒子を還元雰囲気に暴露して、e) 該非晶粒子の付着物を非多孔性ボディに固結するために前記還元雰囲気の温度を上昇させる、各工程からなることを特徴とする方法。
IPC (3件)：
C03C 3/06
, C03B 19/14
, C03B 20/00
C03C 3/06
, C03B 19/14
, C03B 20/00
