特許

J-GLOBAL ID：200903032344562517

沸騰薬液の管理方法

発明者： 伊豆田 信彦 ,  川島 勉
出願人/特許権者： エム・エフエスアイ株式会社
代理人 (1件)： 山本 秀樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-318730
公開番号（公開出願番号）：特開2004-153164
出願日： 2002年10月31日
公開日（公表日）： 2004年05月27日
要約：

【課題】薬液の沸騰状態を比較的簡易かつ高性能に評価できるようにして、薬液処理精度及び均一処理等をより向上する。【解決手段】薬液を収容する槽が加熱手段及び水等を補給する液補給手段等とを有し、前記槽内で加熱沸騰されている薬液を、該薬液の沸騰状態を一定になるよう前記加熱手段や液補給手段等により調整する沸騰薬液の管理方法であって、前記槽内薬液の定深さで不活性ガスをパージした際の背圧を検出する液面計を有し、該液面計の検出値に基づいて当該薬液の沸騰状態を評価して調整管理に利用する。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

薬液を収容する槽が加熱手段及び水等を補給する液補給手段等を有し、前記槽内で加熱沸騰されている薬液を、該薬液の沸騰状態を一定になるよう前記加熱手段や液補給手段等により調整する沸騰薬液の管理方法であって、 前記槽内薬液の定深さで不活性ガスをパージした際の背圧を検出する液面計を有し、該液面計の検出値により当該薬液の沸騰状態を評価して調整管理に利用することを特徴とする沸騰薬液の管理方法。

IPC (1件)：

H01L21/306

FI (1件)：

H01L21/306 E

Fターム (6件)：

5F043AA35 ,  5F043BB23 ,  5F043EE06 ,  5F043EE10 ,  5F043EE22 ,  5F043EE23

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-308034   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-312602   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 薬液液面検知方法及び薬液液面検知装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-360818   出願人：ソニー株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-333425   出願人：大日本スクリーン製造株式会社