特許
J-GLOBAL ID：200903079207953068
基板処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-312602
公開番号（公開出願番号）：特開2004-146739
出願日： 2002年10月28日
公開日（公表日）： 2004年05月20日
要約：
【課題】突沸が生じたことを検知してそれを抑制することにより、突沸による基板への悪影響を防止することができる基板処理装置を提供する。【解決手段】液面状態が突沸であると判断した制御部41は、間隔調節部45により、処理槽3の上端と、処理槽3上部の開閉扉9の下面との隙間を広げるように調節する。これにより、隙間から蒸発する処理液の水分量が多くなるので、処理液の濃度が高くなる方向へ変動する。したがって、沸点に達していた処理液の温度が不変であっても、濃度が高くなるのに応じて沸点が上昇するので、突沸を抑制することができる。その結果、処理中の基板Wに対する悪影響を防止できる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
加熱した処理液を処理槽に貯留し、処理液に基板を浸漬して処理を施す基板処理装置において、
処理液の液面状態を検知する検知手段と、
前記処理槽の上部に配備された開閉扉の下面と前記処理槽の上端との隙間の間隔を調節する間隔調節手段と、
前記検知手段により検知した液面状態に基づいて処理液が突沸したことを判断した場合には、前記間隔調節手段により間隔を広げる制御手段と、
を備えていることを特徴とする基板処理装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (5件)：
5F043EE10
, 5F043EE12
, 5F043EE37
, 5F043EE40
, 5F043GG10
