特許
J-GLOBAL ID：200903032437797123
基板処理装置及び基板処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
油井 透 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-224694
公開番号（公開出願番号）：特開2000-058619
出願日： 1998年08月07日
公開日（公表日）： 2000年02月25日
要約：
【要約】【課題】 装置内搬送期間に基板が自然酸化膜等により汚染されてしまうことを防止する。【解決手段】 CVD装置は、ウェーハ成膜部10と、ウェーハ搬送部30とを有する。ウェーハ搬送部30は、カセット載置台31(1),31(2),31(3),31(4)と、ウェーハ搬送室32と、蓋開閉機構33(1),33(2),33(3),33(4)と、ウェーハ搬送ロボット34とを有する。カセット載置台31(1),31(2),31(3),31(4)に載置されたカセット52とウェーハ成膜部10との間のウェーハ51の搬送は、ウェーハ搬送室32により提供される密閉空間を介して行われる。この密閉空間は、真空排気ライン35と、不活性ガス供給ライン36と、酸素濃度検出計37と、制御部38とにより不活性ガスで浄化される。
請求項（抜粋）：
前部に基板出し入れ口が設けられた基板収容部と、前記基板出し入れ口を塞ぐ蓋とを有する密閉構造の基板収容体に収容された状態で投入される基板に所定の処理を施す基板処理装置において、前記基板が投入される基板投入位置とは異なる位置に設けられ、前記基板に前記所定の処理を施す基板処理部と、前記基板投入位置と前記基板処理部との間で前記基板を搬送する基板搬送部とを備え、前記基板搬送部が、前記基板投入位置で、前記基板収容体を保持する基板収容体保持手段と、この基板収容体保持手段に保持されている前記基板収容体と前記基板処理部との間で前記基板を搬送するための密閉された搬送部側基板搬送空間を提供する搬送部側基板搬送空間提供手段と、前記基板収容体保持手段に保持されている前記基板収容体と前記基板処理部との間で前記基板を搬送する場合に、前記搬送部側基板搬送空間を不活性ガスで浄化する浄化手段と、前記搬送部側基板搬送空間に配設され、この搬送部側基板搬送空間が前記浄化手段によって浄化された状態で、前記基板収容体保持手段に保持されている前記基板収容体の蓋を開閉する蓋開閉手段と、前記搬送部側基板搬送空間に配設され、前記蓋開閉手段によって前記蓋が開かれた前記基板収容体と前記基板処理部との間で前記基板を搬送する搬送部側基板搬送手段とを有することを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/68
, B65G 49/00
, H01L 21/02
H01L 21/68 A
, B65G 49/00 A
, H01L 21/02 Z
5F031BB01
, 5F031BB05
, 5F031CC01
, 5F031CC12
, 5F031CC63
, 5F031GG15
, 5F031HH05
, 5F031KK06
, 5F031KK07
, 5F031LL03
, 5F031LL05
