特許
J-GLOBAL ID：200903032450129555
成膜処理装置内の付着金属膜のクリーニング方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田宮 寛祉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-320429
公開番号（公開出願番号）：特開平11-140652
出願日： 1997年11月06日
公開日（公表日）： 1999年05月25日
要約：
【要約】【課題】 成膜処理装置内に付着した金属銅等の金属膜を、パーティクルや膜剥がれを発生することなく、綺麗に除去する。【解決手段】 このクリーニング方法は、基板の表面に金属膜を堆積する成膜処理装置10で実施され、成膜時に成膜処理装置の内部に付着した金属膜19を酸化してその酸化膜を作る酸化工程と、酸化膜を錯化してその錯体を作る錯化工程と、錯体を昇華する昇華工程とからなるクリーニング工程からなり、そして酸化工程が律速過程となるようにクリーニング工程の条件が設定される。
請求項（抜粋）：
基板の表面に金属膜を堆積する成膜処理装置で、成膜時に前記成膜処理装置の内部に付着した前記金属膜を、前記金属膜を酸化してその酸化膜を作る酸化工程と、前記酸化膜を錯化してその錯体を作る錯化工程と、前記錯体を昇華する昇華工程とからなるクリーニング工程によって、除去するクリーニング方法であり、前記酸化工程が律速過程となるように前記クリーニング工程の条件が設定されることを特徴とする成膜処理装置内の付着金属膜のクリーニング方法。
IPC (7件)：
C23C 16/44
, C23C 14/00
, C23F 4/00
, H01L 21/203
, H01L 21/285
, H01L 21/3065
, H01L 21/205
C23C 16/44 J
, C23C 14/00 B
, C23F 4/00 A
, H01L 21/203 S
, H01L 21/285 C
, H01L 21/205
, H01L 21/302 N
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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引用文献：
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