特許
J-GLOBAL ID：200903032502578574

基板メッキ装置

発明者：
溝畑 保▲廣▼

溝畑 保▲廣▼ について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-283627
公開番号（公開出願番号）：特開2002-097599
出願日： 2000年09月19日
公開日（公表日）： 2002年04月02日
要約：
【要約】【課題】 基板などにメッキ液が残留しないよう洗浄除去でき、残留メッキ液による基板やマスク部材の汚染が防止できる基板メッキ装置を提供する。【解決手段】 本発明は、基板Wの処理面Wsの周辺部をマスク部材としての当接部17aでマスクしてスピンベース3に支持された基板Wの処理面Wsをメッキ処理する基板メッキ装置において、メッキ処理された基板Wを、スピンベース3に支持された状態のまま洗浄カップ39に移送するように、このスピンベース3を移動させる反転,昇降駆動機構部13,15を備え、洗浄カップ39は、スピンベース3に支持された基板Wの処理面Wsと当接部17aとに洗浄液を供給し、基板Wの周辺部が当接部17aでマスクされたままで処理面Wsと当接部17aとを洗浄する。
請求項（抜粋）：
基板の処理面の周辺部をマスク部材でマスクしてこの基板を支持する基板支持部と、前記基板支持部に支持された基板の処理面にメッキ液を接触させてこの処理面をメッキ処理するメッキ処理部とを有する基板メッキ装置において、前記メッキ処理部でメッキ処理された基板を、前記基板支持部に支持された状態のまま洗浄手段に移送するように、前記基板支持部と前記洗浄手段とを相対的に移動させる移動手段を備え、前記洗浄手段は、前記基板支持部に支持された基板の処理面とマスク部材とに洗浄液を供給して、基板の周辺部を前記マスク部材でマスクした状態のままで基板の処理面とマスク部材とを洗浄することを特徴とする基板メッキ装置。
IPC (3件)：
C25D 21/08 ,  C25D 17/00 ,  H01L 21/288
FI (4件)：
C25D 21/08 ,  C25D 17/00 B ,  C25D 17/00 K ,  H01L 21/288 E
Fターム (2件)：
4M104DD51 ,  4M104HH20
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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