特許
J-GLOBAL ID：200903032530656173

処理液の組成管理方法および組成管理システム

発明者：
松下 高広

松下 高広 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (4件)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-229622
公開番号（公開出願番号）：特開2004-066650
出願日： 2002年08月07日
公開日（公表日）： 2004年03月04日
要約：
【課題】表面処理液の組成の変動が小さく、オペレータの負担が少ない表面処理液の組成管理方法および組成管理システムの提供。【解決手段】表面処理に使用する表面処理液について、前記表面処理液の組成に対応して変動する1種または2種以上の特性である処理液特性を連続的に測定する測定工程と、前記測定工程で得られた処理液特性の測定結果に基づいて処理液組成が所定範囲内か否かを判定する判定工程と、前記判定工程において前記処理液組成がが前記所定範囲外であると判定されたときは、前記表面処理液の成分の少なくとも1つを前記表面処理液に添加して前記処理液組成を前記所定範囲内に戻す組成制御工程とを有する表面処理液の組成管理方法、組成管理システム。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
表面処理に使用する処理液について、前記処理液の組成に対応して変動する特性である処理液特性を連続的に測定する測定工程と、 前記測定工程で得られた測定結果に基づいて前記処理液の組成が所定範囲内か否かを判定する判定工程と、 前記判定工程において前記組成が所定範囲外であると判定されたときは、前記処理液の成分の少なくとも1つを添加して前記処理液の組成を前記所定範囲内に戻す組成制御工程とを 有してなることを特徴とする処理液の組成管理方法。
IPC (7件)：
B41N3/03 ,  B41N3/08 ,  C23F1/36 ,  C25D21/12 ,  C25D21/14 ,  G01N9/26 ,  G01N27/06
FI (7件)：
B41N3/03 501 ,  B41N3/08 ,  C23F1/36 ,  C25D21/12 C ,  C25D21/14 K ,  G01N9/26 ,  G01N27/06 Z
Fターム (21件)：
2G060AA06 ,  2G060AC05 ,  2G060AE17 ,  2G060AF08 ,  2G060FA01 ,  2G060FB02 ,  2G060HC02 ,  2G060HC07 ,  2G060HD03 ,  2G060KA06 ,  2H114AA14 ,  2H114DA64 ,  2H114EA08 ,  2H114FA04 ,  2H114GA04 ,  4K057WA05 ,  4K057WB05 ,  4K057WE21 ,  4K057WL05 ,  4K057WL10 ,  4K057WN10
引用特許：
審査官引用 (6件)
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