特許

J-GLOBAL ID：200903032609181430

プラズマ処理装置

発明者： 佐藤 崇之
出願人/特許権者： 株式会社日立国際電気
代理人 (3件)： 油井 透 ,  阿仁屋 節雄 ,  清野 仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-082596
公開番号（公開出願番号）：特開2004-296460
出願日： 2003年03月25日
公開日（公表日）： 2004年10月21日
要約：

【課題】プラズマ処理反応室のチャンバの一部、つまり真空容器の一部を構成する下容器や蓋枠といった金属製部材をプラズマから保護し、汚染の少ない処理被処理基板を得るプラズマ処理装置を提供することにある。【解決手段】少なくとも一部に金属製のチャンバ壁(下容器1、蓋枠7等)を有するチャンバ(真空容器10)内で、被処理基板6へプラズマ処理をするプラズマ処理装置において、前記金属製のチャンバ壁(下容器1、蓋枠7等)と他のチャンバ壁(絶縁材の上容器2等)との真空シール面側方に、少なくとも絶縁性保護部材8を設ける。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

少なくとも一部に金属製のチャンバ壁を有するチャンバ内で、被処理基板へプラズマ処理をするプラズマ処理装置において、 前記金属製のチャンバ壁と他のチャンバ壁との真空シール面側方に、少なくとも絶縁性保護部材を設けたことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (3件)：

H01L21/3065 ,  C23C16/44 ,  H01L21/31

FI (3件)：

H01L21/302 101G ,  C23C16/44 J ,  H01L21/31 A

Fターム (21件)：

4K030AA14 ,  4K030AA24 ,  4K030KA45 ,  4K030KA46 ,  4K030KA47 ,  5F004AA14 ,  5F004BA06 ,  5F004BB13 ,  5F004BB29 ,  5F004BC01 ,  5F045AA08 ,  5F045AB32 ,  5F045AB33 ,  5F045AC11 ,  5F045AC15 ,  5F045BB14 ,  5F045DP03 ,  5F045EB03 ,  5F045EB10 ,  5F045EF05 ,  5F045EH04

引用特許：

審査官引用 (3件)

• プラズマエッチングリアクタ内の真空シール用保護カラー
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-107550   出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
• 物理化学的処理装置および気密性保持部材の劣化防止方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-128436   出願人：ソニー株式会社
• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-336294   出願人：住友金属工業株式会社