ポリビニルフェノール類のアセタール化物及び/又はカーボネート化物の製造方法及び感放射線性樹脂組成物

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長谷川曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-143129
公開番号（公開出願番号）：特開2000-327714
出願日： 1999年05月24日
公開日（公表日）： 2000年11月28日
要約：

【要約】【課題】ポリビニルフェノール類のアセタール化物及び/又はカーボネート化物を所望の保護率で安定して製造する方法及び、製造ロット間の性能振れの少ない感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】ポリビニールフェノール類(A)と、>C=C-O-の部分構造を有しかつポリビニルフェノール類と反応してアセタール構造を形成しうる化合物(B)、及び/またはR-O-C(=O)-(但し、Rは脂肪族炭化水素基)で示される部分構造を有しかつポリビニルフェノール類と反応してカーボネート構造を形成しうる化合物(C)とを、触媒及び有機溶媒の存在下反応してポリビニルフェノール類のフェノール性水酸基の少なくとも一部がアセタール化物及び/又はカーボネート化された化合物(D)を製造する方法において、得られた化合物(D)を300mmHg以下で減圧乾燥することを特徴とするポリビニルフェノール類のアセタール化物及び/又はカーボネート化物の製造方法。

請求項（抜粋）：

ポリビニールフェノール類(A)と、>C=C-O-の部分構造を有しかつポリビニルフェノール類と反応してアセタール構造を形成しうる化合物(B)、及び/またはR-O-C(=O)-(但し、Rは脂肪族炭化水素基)で示される部分構造を有しかつポリビニルフェノール類と反応してカーボネート構造を形成しうる化合物(C)とを、触媒及び有機溶媒の存在下反応してポリビニルフェノール類のフェノール性水酸基の少なくとも一部がアセタール化物及び/又はカーボネート化された化合物(D)を製造する方法において、得られた化合物(D)を300mmHg以下で減圧乾燥することを特徴とするポリビニルフェノール類のアセタール化物及び/又はカーボネート化物の製造方法。

IPC (4件)：

C08F 8/28 , C08F 2/46 , G03F 7/027 502 , G03F 7/039 601

FI (4件)：

C08F 8/28 , C08F 2/46 , G03F 7/027 502 , G03F 7/039 601

Fターム (45件)：

2H025AA00 , 2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AB08 , 2H025AB13 , 2H025AB16 , 2H025AB17 , 2H025AC01 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025BJ10 , 2H025CC20 , 2H025EA10 , 2H025FA01 , 2H025FA03 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 4J011QA09 , 4J011SA71 , 4J011SA74 , 4J011SA78 , 4J011SA83 , 4J011SA87 , 4J011UA04 , 4J011VA06 , 4J011VA08 , 4J011WA01 , 4J011XA02 , 4J100AB02Q , 4J100AB07P , 4J100AD02Q , 4J100AJ02Q , 4J100BA03P , 4J100HA43 , 4J100HC08 , 4J100HC13 , 4J100HC16 , 4J100HC38 , 4J100HC59 , 4J100HC80 , 4J100HD19

引用特許：

審査官引用 (6件)

tert.-ブチルオキシカルボニル基を有する有機化合物の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-214490 出願人：ヘキスト・アクチェンゲゼルシャフト
ポリマー組成物及びこれを含んで成るレジスト材料
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-354985 出願人：和光純薬工業株式会社
新規酸感応性基で保護されたヒドロキシスチレン重合体およびこれらを含む放射線感応性材料
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-239141 出願人：クラリアントアーゲー

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