特許
J-GLOBAL ID:200903032690114016

重合体結合増感剤

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 坂口 博 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-165664
公開番号(公開出願番号):特開平10-069071
出願日: 1997年06月23日
公開日(公表日): 1998年03月10日
要約:
【要約】【課題】 集積回路構造などの半導体装置の製造におけるリソグラフィ工程に使用するフォトレジスト組成物。【解決手段】 このフォトレジスト組成物は、塩基可溶性長鎖重合体に単量体増感剤が結合したものである。
請求項(抜粋):
単量体増感剤と、分子量が1,000〜250,000の範囲の塩基可溶性長鎖重合体からなる、フォトレジスト処方に適した組成物。
IPC (3件):
G03F 7/004 503 ,  G03F 7/038 601 ,  G03F 7/039 601
FI (3件):
G03F 7/004 503 Z ,  G03F 7/038 601 ,  G03F 7/039 601
引用特許:
審査官引用 (21件)
  • ネガ型フォトレジスト膜の現像方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-166807   出願人:日本合成ゴム株式会社
  • レジスト塗布組成物
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-197813   出願人:日本合成ゴム株式会社
  • 感放射線性樹脂組成物
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-270332   出願人:日本合成ゴム株式会社
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