特許
J-GLOBAL ID：200903032844191787
薄膜パターン形成方法とその装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山口 巖 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-320799
公開番号（公開出願番号）：特開2002-126659
出願日： 2000年10月20日
公開日（公表日）： 2002年05月08日
要約：
【要約】【課題】 レーザ加工残渣または基板付着物の除去性能の向上と、除去物の基板への再付着を防止して薄膜の不良発生の防止を図り、さらに製造工程の簡素化を図った薄膜パターン形成方法とその装置を提供する。【解決手段】 レーザ加工により基板1をパターニングした後、ウレタン製の2個の洗浄用ロール12を基板搬送方向に正逆回転させ、かつ基板搬送方向と直角方向に振動させて基板を擦り洗浄し、レーザ加工残渣を除去する。また、サンドブラスト加工とリフトオフマスクによるパターニングの場合には、パターニング後、上記洗浄用ロールの擦り洗浄により、サンドブラスト加工による基板付着物の除去とリフトオフマスクの除去とを同時に行なう。さらに、搬送停止時に、洗浄用ロールを長尺基板上のパターン非形成面の位置においてスタンバイさせ、洗浄用ロールの回転が所定の回転速度に到達した後に、基板の搬送を行なう。
請求項（抜粋）：
ロール状の長尺基板を連続的に搬送し、前記基板の少なくとも一方の主面に形成された薄膜をレーザ加工によりパターニングした後、前記パターニングの際に基板に付着したレーザ加工残渣を、樹脂材料からなる少なくとも2個の洗浄用ロールの擦り洗浄により除去する薄膜パターン形成方法において、前記2個の洗浄用ロールを、基板の搬送方向に正逆回転させ、かつ基板搬送方向と直角方向に振動させて擦り洗浄することを特徴とする薄膜パターン形成方法。
IPC (4件)：
B08B 1/02
, B08B 1/04
, B24C 1/04
, H01L 31/04
B08B 1/02
, B08B 1/04
, B24C 1/04 B
, H01L 31/04 S
3B116AA08
, 3B116AB14
, 3B116BA08
, 3B116BA14
, 5F051BA14
, 5F051CB30
, 5F051EA09
, 5F051EA10
, 5F051EA11
, 5F051EA16
