特許
J-GLOBAL ID:200903032974165583

化学吸着膜の形成方法、及び化学吸着膜

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 西 和哉 ,  志賀 正武 ,  青山 正和
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-217069
公開番号(公開出願番号):特開2006-035066
出願日: 2004年07月26日
公開日(公表日): 2006年02月09日
要約:
【課題】 均一な膜厚で強固に基材表面に結合した化学吸着膜を短時間で高効率に基材表面に形成する方法を提供する。【解決手段】 本発明の化学吸着膜の形成方法は、基材表面を親水化する親水処理工程ST1と、親水化された前記基材表面に酸または塩基を付着させる処理工程ST2と、酸または塩基が付着している基材表面に化学吸着剤を接触させ、同表面に化学吸着膜を形成する成膜工程ST3とを含む。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
基材表面に化学吸着膜を形成する方法であって、 前記基材の表面に酸または塩基を付着させる処理工程と、 前記処理工程後の基材と化学吸着剤とを接触させて前記基材表面に化学吸着剤を付着させる成膜工程と を含むことを特徴とする化学吸着膜の形成方法。
IPC (2件):
B01J 19/08 ,  C23C 26/00
FI (2件):
B01J19/08 K ,  C23C26/00 Z
Fターム (21件):
4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075BA10 ,  4G075BB04 ,  4G075BB10 ,  4G075BD14 ,  4G075BD16 ,  4G075CA02 ,  4G075CA57 ,  4G075DA02 ,  4G075EB01 ,  4K044AA01 ,  4K044AA11 ,  4K044AA12 ,  4K044BA21 ,  4K044BB01 ,  4K044BB03 ,  4K044BB10 ,  4K044CA04 ,  4K044CA07 ,  4K044CA53
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (2件)

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