特許
J-GLOBAL ID：200903033040829149
マスク作成装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (2件)：
後藤 洋介
, 池田 憲保
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-033017
公開番号（公開出願番号）：特開2004-245905
出願日： 2003年02月10日
公開日（公表日）： 2004年09月02日
要約：
【課題】従来装置では、用いられる二次元配列微小ミラーが紫外レーザ光によってダメージを受けることがなど問題であった。【解決手段】マスク作成装置100において用いられる二次元配列微小ミラー106では、ミラー面に(111)配向のアルミが用いられる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
二次元配列状の光制御素子を用いたマスクパターン投影装置と縮小投影光学装置とを含み、前記光制御素子をマスクパターンデータによって制御することによって前記マスクパターン投影装置から第1のマスクパターンを出力させ、この第1のマスクパターンを前記縮小投影光学装置に入力して縮小された第2のマスクパターンを形成する半導体装置製造用マスク作成装置において、前記二次元配列状の光制御素子として、面方位が実質的に(111)に配向されたアルミニウムを少なくとも表面に有する二次元配列微小ミラーを用いることを特徴とする半導体装置製造用マスク作成装置。
IPC (3件)：
G03F1/08
, G03F7/20
, H01L21/027
G03F1/08 C
, G03F7/20 521
, H01L21/30 502P
, H01L21/30 529
2H095BB06
, 2H095BB08
, 5F046BA07
, 5F046CA03
, 5F046CB02
