特許

J-GLOBAL ID：200903033081364118

回転基材の表面から液体を除去する方法および装置

発明者： ポウル・メルテンス ,  マルク・メーリス ,  マルク・ヘインス
出願人/特許権者： アンテルユニヴェルシテール・ミクロ-エレクトロニカ・サントリュム・ヴェー・ゼッド・ドゥブルヴェ
代理人 (1件)： 青山 葆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-306256
公開番号（公開出願番号）：特開平11-233481
出願日： 1998年09月22日
公開日（公表日）： 1999年08月27日
要約：

【要約】【課題】 水平に配置した状態で、湿式処理した後の基材の少なくとも1つの表面から液体を効率よく除去する。【解決手段】 基材に供給する液体と相溶性を有しており、該液体と混合した場合に、該液体の表面張力よりも低い表面張力を有する混合物を生じる気体物質を基材の表面に供給することを、回転する基材の表面の少なくとも一部に、液体を供給することと組み合わせて行う。

請求項（抜粋）：

少なくとも1つの基材の少なくとも1つの表面から液体を除去する方法であって、基材を回転運動に付する工程;基材の表面の少なくとも一部に液体を供給する工程;および該液体を供給する間に、該液体と少なくとも部分的に相溶性を有しており、該液体と混合した場合に、該液体の表面張力よりも低い表面張力を有する混合物を生じる気体物質を基材の表面に供給する工程を含んで成る方法。

IPC (5件)：

H01L 21/304 651 ,  H01L 21/304 ,  F26B 5/08 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/308

FI (5件)：

H01L 21/304 651 B ,  H01L 21/304 651 H ,  F26B 5/08 ,  H01L 21/308 G ,  H01L 21/306 R

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 洗浄方法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-148606   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
• 基板の洗浄処理方法並びに洗浄処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-190059   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• スピン洗浄乾燥方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-119604   出願人：島田理化工業株式会社