特許
J-GLOBAL ID：200903033273490052

マイクロ波プラズマ処理装置

発明者：
中西 敏雄

中西 敏雄 について


出願人/特許権者：
住友金属工業株式会社

住友金属工業株式会社 について


代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-341974
公開番号（公開出願番号）：特開2000-173799
出願日： 1998年12月01日
公開日（公表日）： 2000年06月23日
要約：
【要約】【課題】 プラズマ密度の安定性を高める。【解決手段】 有底円筒状の金属製の処理容器1の上端開口部が、石英円板で構成されるマイクロ波導入板4で封止されている。マイクロ波導入板4の上面及び外周面は、導電性金属製のカバー部材10で覆われており、カバー部材10の上面には、マイクロ波が導入される環状導波管型アンテナ部12aが配設されている。アンテナ部12aの底部には、周に沿った等間隔でスリット15が開設されている。スリット15の個数は、マイクロ波導入板4を伝搬するマイクロ波に、表面波成分のみが含まれ、バルク波成分が存在しないための、所定の条件を満たす範囲に設定される。このため、処理室2に生成されるプラズマの密度の安定性を高めることができる。
請求項（抜粋）：
処理対象である試料を載置する試料台を格納した処理室へマイクロ波を導入し、当該マイクロ波によりプラズマを生成し、当該プラズマを用いて前記試料に処理を行うためのマイクロ波プラズマ処理装置であって、一端が開口する処理容器と、前記一端を封止することにより、前記処理容器と共同で前記処理室を形成する略円板状のマイクロ波導入板と、当該マイクロ波導入板の外周に沿って環状に配設された導電体と、前記マイクロ波導入板の上に環状に配設された導電性の管状部材と、を備え、前記管状部材の前記マイクロ波導入板に対向する部分に、開口部が開設されており、当該開口部は、前記管状部材の周方向に沿って、等間隔に並ぶ2×m(mは1以上の整数)個の部位の中の、複数部位に開設されており、前記整数mは、jmnをm次ベッセル関数のn番目の根、Rを前記マイクロ波導入板の半径、ωを前記マイクロ波の角周波数、εdを前記マイクロ波導入板の比誘電率、cを真空での光速として、εd・ω2/c2-(jmn/R)2 ≧0が成立する整数n(≧1)を存在せしめないように設定されるマイクロ波プラズマ処理装置。
IPC (3件)：
H05H 1/46 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065
FI (3件)：
H05H 1/46 B ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 B
Fターム (24件)：
5F004AA01 ,  5F004AA16 ,  5F004BA04 ,  5F004BA09 ,  5F004BB11 ,  5F004BB13 ,  5F004BB14 ,  5F004BB18 ,  5F004BC08 ,  5F004CA06 ,  5F045AA08 ,  5F045AA09 ,  5F045BB02 ,  5F045CA15 ,  5F045DP01 ,  5F045DP02 ,  5F045DP03 ,  5F045DP04 ,  5F045DQ10 ,  5F045EH01 ,  5F045EH02 ,  5F045EH03 ,  5F045EH13 ,  5F045EH14
引用特許：
審査官引用 (5件)
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