特許

J-GLOBAL ID：200903033307465869

錫・白金複酸化物およびその製造方法、錫・タングステン複酸化物およびその製造方法、並びに錫・レニューム複酸化物およびその製造方法

発明者： 国原 健二 ,  鈴木 卓弥 ,  吉田 誠 ,  岡村 誠 ,  小林 光男 ,  都甲 文亨
出願人/特許権者： 富士電機ホールディングス株式会社
代理人 (1件)： 榊原 弘造
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-189143
公開番号（公開出願番号）：特開2005-154252
出願日： 2004年06月28日
公開日（公表日）： 2005年06月16日
要約：

【課題】微細なPt粒子をSnO2中に高分散で多量に存在させることができる新規な錫・白金複酸化物およびその製造方法を提供する。【解決手段】例えば、酸素を含有する不活性スパッタガス中でSnO2とPtとを同時スパッタで成膜して合成することにより、一般式SnXPt(1-X)O2(0.6<X<0.99)で示されるルチル構造を有する錫・白金複酸化物を合成する。詳細には、ルチル構造であるSnO2のSnサイトに多量のPtを固溶した新規なSnO2(SnXPt(1-X)O2)を合成することにより、微細なPt粒子をSnO2中に高分散で多量に存在させることが達成される。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

一般式 SnXPt(1-X)O2 (0.6<X<0.99) で示されるルチル構造を有することを特徴とする錫・白金複酸化物。

IPC (4件)：

C01G55/00 ,  C01G41/00 ,  C01G47/00 ,  C23C14/08

FI (4件)：

C01G55/00 ,  C01G41/00 A ,  C01G47/00 ,  C23C14/08 K

Fターム (10件)：

4G048AA03 ,  4G048AB01 ,  4G048AC08 ,  4K029BA50 ,  4K029BA64 ,  4K029BC00 ,  4K029CA06 ,  4K029DC03 ,  4K029DC05 ,  4K029DC15

引用特許：

出願人引用 (8件)

• Journal of Catalysis 130,(1991年)314ページ
  
• 触媒、vol.35,No.3(1993年)206ページ
  
• 日本化学学会誌、No.10,(1980年)1597ページ
  
• Material Science and Engineering,B57(1998年)76ページ
  
• Chem. Mater. Vol.13,No.11(2001年)4355ページ
  
• 薄膜ガスセンサ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-096952   出願人：富士電機株式会社
• 『金属酸化物と複合酸化物』田部浩三他著、講談社発行、P200〜P211、P230〜P235
  
• 『電気伝導性酸化物』津田惟雄他著、裳華房発行、P26,2-2表
  

審査官引用 (5件)

• 薄膜ガスセンサ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-370935   出願人：富士電機機器制御株式会社
• 薄膜ガスセンサ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-096952   出願人：富士電機株式会社
• 透明導電性薄膜形成用焼結体ターゲット、その製造方法、及びそれより得られる透明導電性薄膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-077586   出願人：住友金属鉱山株式会社
• 薄膜半導体装置およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-187884   出願人：富士通株式会社
• 錫系複合酸化物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-308109   出願人：株式会社トクヤマ

引用文献：

審査官引用 (1件)

• Characterisation of Carbon-supported Pt-Sn Bimetallic Catalysts for the Electrochemical Oxidation of