ウエハ加熱装置

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-398611
公開番号（公開出願番号）：特開2002-083858
出願日： 2000年12月27日
公開日（公表日）： 2002年03月22日
要約：

【要約】【課題】均熱板にウェハを支持するウェハ加熱装置において、均熱板の載置面が凹状になると、中心付近で均熱板とウエハの間のギャップが大きくなるので、特に、均熱板の温度設定を変更したり、ウエハを交換した際の昇温過渡時に中心部の加熱が遅れ気味になり、その結果ウエハ面内の温度分布が大きくなるという課題があった。【解決手段】セラミックスからなる均熱板の一方の主面をウエハの載置面とし、他方の主面もしくは内部に発熱抵抗体を有するとともに、該発熱抵抗体と電気的に接続される給電部を前記他方の主面に具備してなるウエハ加熱装置において、前記均熱板の載置面を凸状にする。

請求項（抜粋）：

セラミックスからなる均熱板の一方の主面をウエハの載置面とし、他方の主面に発熱抵抗体を有するとともに、該発熱抵抗体と電気的に接続される給電部を前記他方の主面に具備してなるウエハ加熱装置において、前記均熱板の載置面を凸状としたことを特徴とするウエハ加熱装置。

IPC (4件)：

H01L 21/68 , H01L 21/027 , H05B 3/10 , H05B 3/20 328

FI (4件)：

H01L 21/68 N , H05B 3/10 C , H05B 3/20 328 , H01L 21/30 567

Fターム (43件)：

3K034AA02 , 3K034AA08 , 3K034AA10 , 3K034AA19 , 3K034AA21 , 3K034AA34 , 3K034AA37 , 3K034BA05 , 3K034BA13 , 3K034BB06 , 3K034BB14 , 3K034BC04 , 3K034BC12 , 3K034CA15 , 3K034DA04 , 3K034FA12 , 3K034HA10 , 3K034JA02 , 3K034JA10 , 3K092PP20 , 3K092QA05 , 3K092QB18 , 3K092QB30 , 3K092QB43 , 3K092QB75 , 3K092RF03 , 3K092RF11 , 3K092RF17 , 3K092RF22 , 3K092SS03 , 3K092SS12 , 3K092SS24 , 3K092UA05 , 3K092VV22 , 5F031HA02 , 5F031HA06 , 5F031HA08 , 5F031JA01 , 5F031JA46 , 5F031MA30 , 5F031PA11 , 5F031PA18 , 5F046KA04

引用特許：

審査官引用 (8件)

半導体製造・検査装置用セラミックヒータ
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-163012 出願人：イビデン株式会社
ヒーターおよびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-210014 出願人：イビデン株式会社
均熱セラミックスヒーター
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-071787 出願人：信越化学工業株式会社

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