特許

J-GLOBAL ID：200903033389085996

基板の洗浄方法および装置

発明者： 森 宏幸 ,  後藤 日出人 ,  丹生谷 貴行
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-028446
公開番号（公開出願番号）：特開2002-224627
出願日： 2001年02月05日
公開日（公表日）： 2002年08月13日
要約：

【要約】【課題】 対向する2つの主面の間隙に基板を配置して密閉し、基板を効率的かつ確実に洗浄することができる基板の洗浄方法および装置を提供する。【解決手段】 洗浄用の流体は、流体配管26から2つの流体導入配管20に分岐され(導入路形成工程)、バッファ部18に流入する。バッファ部18で対向する流体の流れは、衝突して合流し、流体の流れの方向を90°変えて導入部14に流入する(流路変更工程)。導入部14に流入した流体は、流速を変えることなく、流れの幅を拡大するとともに流れの厚みを薄くされて洗浄処理容器12内に流入する(入口整流工程)。洗浄処理容器12に流入した流体は、ウエハ22の両面に沿って上方に均一かつ高速に流れ、ウエハ22の表面に付着した異物を溶解し、あるいは剥離させる(洗浄工程)。洗浄後の流体は、流動状態を乱すことなく洗浄処理容器12から排出部16に流出する(出口整流工程)。

請求項（抜粋）：

洗浄用の流体を用いて基板を洗浄する基板の洗浄方法において、密閉された扁平な洗浄処理容器の扁平な面に平行に該基板を配置し、洗浄用の流体を該基板に平行かつ一方向に均一に流して該基板を洗浄する洗浄工程を有することを特徴とする基板の洗浄方法。

IPC (3件)：

B08B 3/04 ,  B08B 3/10 ,  H01L 21/304 642

FI (3件)：

B08B 3/04 Z ,  B08B 3/10 Z ,  H01L 21/304 642 A

Fターム (8件)：

3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB53 ,  3B201BB02 ,  3B201BB82 ,  3B201BB87 ,  3B201BB95 ,  3B201CB01

引用特許：

審査官引用 (3件)

• ウエハ洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-280308   出願人：宮城沖電気株式会社, 沖電気工業株式会社
• 板状体の洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-138049   出願人：山形日本電気株式会社
• 基板の洗浄方法及び基板の洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-112867   出願人：ソニー株式会社