粒子ビーム、特にイオンの光学像投影システム

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：荒船博司
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-518727
公開番号（公開出願番号）：特表平9-511090
出願日： 1995年01月12日
公開日（公表日）： 1997年11月04日
要約：

【要約】好ましくはリソグラフィーのための、粒子ビーム、特にイオン光学像投影システムは、マスク箔上に1または複数の透明なスポット、とりわけ孔の形で設けられた構造の像を、ウエーハの前のビーム方向に配置された少なくとも2つの静電レンズを通して、ウエーハ上に投影するための、粒子源、特にイオン源を有する。前記レンズの少なくとも一方は、1つまたは2つのチューブ電極(R1,R2)と、孔を有しビームの光路上に配置されたプレートとによって形成されたいわゆる格子レンズであり、前記プレートは光軸Dに対して垂直に配置されている。前記プレートは、ビームの伝播方向に、格子レンズの中間電極または第1の電極を形作るマスク箔Mによって形成される。

請求項（抜粋）：

粒子源、特にイオン源を有し、マスク箔上に1または複数の透明なスポット、とりわけ孔の形で設けられた構造の像を、ウエーハの前のビーム方向に配置された少なくとも2つの静電レンズによって、ウエーハ上に投影するための、好ましくはリソグラフィーのための、粒子ビーム、特にイオン光学像投影システムであって、前記レンズの少なくとも一方は、1つまたは2つのチューブ電極(R1,R2)と、孔を有しビームの光路上に配置されたプレートとによって形成されたいわゆる格子レンズであり、前記プレートは光軸(D)に対して垂直に配置されており、前記プレートは、格子レンズの中間電極またはビーム方向に見られるように、第1の電極を形成するマスク箔により形成されることを特徴とする像投影システム。

IPC (3件)：

H01J 37/305 , H01J 37/12 , H01L 21/027

FI (3件)：

H01J 37/305 B , H01J 37/12 , H01L 21/30 541 B

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開昭64-064216
特開平2-065117
イオン光学描写装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-221625 出願人：イーエムエスイオーネンミクロファブリカチオンスジステーメゲゼルシャフトミトベシュレンクテルハフツング

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審査官引用 (5件)

特開昭64-064216
特開平2-065117
イオン光学描写装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-221625 出願人：イーエムエスイオーネンミクロファブリカチオンスジステーメゲゼルシャフトミトベシュレンクテルハフツング

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