ウエハの加熱処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：牛木護
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-043781
公開番号（公開出願番号）：特開2000-243806
出願日： 1999年02月22日
公開日（公表日）： 2000年09月08日
要約：

【要約】【課題】ヒートショックを防止することができるウエハの熱処理装置を提供する。【解決手段】加熱炉3内の載置部105に降下によりウエハ5を載置する搬送装置2を備える。搬送装置2は、ウエハ5の降下速度を載置部15に近接した位置で減速するように構成されている。載置部15に近づくと、降下速度が減速することにより、載置部15にウエハ5がゆっくりと受渡され、ヒートショック及び機械的な微細な衝撃の発生を防止することができる。

請求項（抜粋）：

加熱炉内の載置部に降下によりウエハを載置する搬送装置を備えたウエハの加熱処理装置において、前記搬送装置は、前記ウエハの降下速度を前記載置部に近接した位置で減速するように構成されていることを特徴とするウエハの加熱処理装置。

Fターム (11件)：

5F031CA02 , 5F031FA01 , 5F031FA07 , 5F031FA11 , 5F031FA12 , 5F031GA06 , 5F031GA43 , 5F031GA47 , 5F031GA49 , 5F031MA30 , 5F031PA11

引用特許：

審査官引用 (3件)

シリコンウエハの搬送装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-070374 出願人：玉川マシナリー株式会社
搬送方法及び搬送装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-046413 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-024050 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社

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