特許

J-GLOBAL ID：200903033575027947

イオン性液体系製品及びその使用方法

発明者： ケネス、ネイサン、プライス ,  リチャード、ティモシー、ハートショーン ,  ロバート、ヘンリー、ローボー ,  ウィリアム、マイケル、シェパー ,  マイケル、スタンフォード、ショウェル ,  キース、ホーマー、ベーカー ,  マーク、ロバート、シビック ,  ジェフリー、ジョン、シャイベル ,  ロブ、リチャード、ガードナー ,  プラモド、カクマヌ、レディー ,  ジョン、デイビス、アイケン、ザ、サード ,  マイケル、クロンビー、アディソン
出願人/特許権者： ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニー
代理人 (4件)： 吉武 賢次 ,  中村 行孝 ,  紺野 昭男 ,  横田 修孝
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-518050
公開番号（公開出願番号）：特表2005-530910
出願日： 2003年06月27日
公開日（公表日）： 2005年10月13日
要約：

イオン性液体(類)を含む組成物及び表面又は空気処理組成物へのその使用。

請求項（抜粋）：

イオン性液体を含む、表面又は空気処理組成物。

IPC (5件)：

C11D1/38 ,  C09K3/00 ,  C11D1/58 ,  C11D1/60 ,  C11D1/62

FI (5件)：

C11D1/38 ,  C09K3/00 R ,  C11D1/58 ,  C11D1/60 ,  C11D1/62

Fターム (23件)：

4H003BA12 ,  4H003DA01 ,  4H003DA03 ,  4H003DA05 ,  4H003DA11 ,  4H003DA14 ,  4H003DA17 ,  4H003DA19 ,  4H003DA20 ,  4H003DB02 ,  4H003DC03 ,  4H003EB19 ,  4H003EB20 ,  4H003EB23 ,  4H003EC01 ,  4H003EC02 ,  4H003ED19 ,  4H003ED28 ,  4H003ED31 ,  4H003ED32 ,  4H003FA12 ,  4H003FA15 ,  4H003FA26

引用特許：

審査官引用 (7件)

• 特開平1-104789
  
• 精密洗浄剤組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-127104   出願人：多摩化学工業株式会社
• 半導体装置用洗浄剤及び半導体装置の洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-326061   出願人：ソニー株式会社, 三菱瓦斯化学株式会社
• 洗浄剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-327072   出願人：花王株式会社
• 炭化水素及び炭化水素混合物からの極性不純物除去方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2003-540118   出願人：ソルベントイノベーションゲーエムベーハー
• ハロゲンを含まないイオン性液体
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2003-572963   出願人：ソルベントイノベーションゲーエムベーハー
• ポリオレフィン系不織布
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-045060   出願人：三洋化成工業株式会社