露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：立石篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-344590
公開番号（公開出願番号）：特開平9-162117
出願日： 1995年12月05日
公開日（公表日）： 1997年06月20日
要約：

【要約】【課題】露光光が短波長となっても、光化学反応による曇り物質及びオゾンの発生を効果的に防止する。【解決手段】照明光学系の一部を構成する筺体38の内部に、図示の点線矢印で示されるガスの流通経路が形成されている。この流通経路を介して鏡筒68、70、72の内部空間の空気を窒素ガスに置換している。また、開閉装置92Fの吹き出し口から窒素ガスが筺体38の内部空間にも供給されている。従って、筺体38内及び鏡筒68、70、72内の空間の酸素濃度が低く維持され、光化学反応の過程における酸化反応を防止することができ、後に続く生成物(曇り物質)の発生がなく防曇を行うことができるとともに露光光が酸素を反応させることによるオゾンの発生をも効果的に防止(あるいは抑制)することができる。

請求項（抜粋）：

露光光源からの露光光により照明光学系を介してマスクを照明し、前記マスクに形成されたパターンを投影光学系を介して感光基板上に投影露光する露光装置であって、前記露光光源から前記マスクに至る露光光の光路上に配置される光学系が複数ブロックに分割され、前記複数ブロックの内、1又は2以上の特定ブロックが、筺体とこの筺体内に収納された1又は2以上の鏡筒と、各鏡筒に保持された光学要素とを備え、当該各特定ブロックを構成する前記筺体内及び鏡筒内の空間の酸素濃度が低く維持されている露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 515 D , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 516 F

引用特許：

出願人引用 (8件)

レーザ光学装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-078601 出願人：株式会社ニコン
特開平2-210813
露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-023564 出願人：キヤノン株式会社

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審査官引用 (8件)

レーザ光学装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-078601 出願人：株式会社ニコン
特開平2-210813
露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-023564 出願人：キヤノン株式会社

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