露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山口孝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-108178
公開番号（公開出願番号）：特開平8-279459
出願日： 1995年04月07日
公開日（公表日）： 1996年10月22日
要約：

【要約】【目的】照明光の光量損失を招くことなく、照明光学系の光源から投影光学系のマスク側端部までの密閉空間を所望の密閉区画ブロックに随時仕切ることのできる露光装置を提供すること。【構成】本発明においては、パターンが形成されたマスクに特定波長の光を照射するための照明光学系と、前記照明されたマスクのパターン像を基板上に投影露光するための投影光学系とを備えた露光装置において、前記照明光学系の光源から前記投影光学系の前記マスク側端部までの光路を大気から遮断するための密閉手段と、前記密閉手段内の空間を随時仕切って密閉区画ブロックを形成するための仕切り手段とを備えている。

請求項（抜粋）：

パターンが形成されたマスクに特定波長の光を照射するための照明光学系と、前記照明されたマスクのパターン像を基板上に投影露光するための投影光学系とを備えた露光装置において、前記照明光学系の光源から前記投影光学系の前記マスク側端部までの光路を大気から遮断するための密閉手段と、前記密閉手段内の空間を随時仕切って密閉区画ブロックを形成するための仕切り手段とを備えていることを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (5件)：

H01L 21/30 515 D , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 502 P , H01L 21/30 515 B , H01L 21/30 527

引用特許：

審査官引用 (6件)

露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-046519 出願人：株式会社ニコン
レーザ光学装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-078601 出願人：株式会社ニコン
投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-252387 出願人：株式会社ニコン

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