特許
J-GLOBAL ID：200903033693458790
マイクロメカニカルデバイス及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊丹 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-261999
公開番号（公開出願番号）：特開2003-071798
出願日： 2001年08月30日
公開日（公表日）： 2003年03月12日
要約：
【要約】【課題】 簡単な構造とプロセスにより高性能特性を得ることを可能としたマイクロメカニカルデバイスを提供する。【解決手段】 表面マイクロマシン技術により、シリコン基板10上に所定ギャップをもって、少なくとも一対の近接配置されたビーム11が形成される。ビーム11の両端部は基板10に固定されたアンカー部12となり、中央部に可動接点13が形成される。ビーム11の間には、基板10に固定された駆動電極14が、ビーム11と同時に形成される。駆動電極14に電圧を印加することにより、これを挟んで配置されたビーム11は、基板10と平行方向に変位して、可動接点13が接触する。
請求項（抜粋）：
基板と、この基板上に所定ギャップをもって浮いた状態で機械的に変位可能に形成され、前記基板に固定された固定部を備えて互いに近接配置された少なくとも一対のビームと、前記基板上の前記一対のビームの間に配置されて前記一対のビームを静電気力により前記基板と平行方向に変位させるための駆動電極と、を有することを特徴とするマイクロメカニカルスイッチ。
IPC (4件)：
B81B 3/00
, B81C 1/00
, H01H 59/00
, H03H 9/46
B81B 3/00
, B81C 1/00
, H01H 59/00
, H03H 9/46 Z
