特許

J-GLOBAL ID：200903033701370091

疎水性煙霧シリカ及びその製造方法

発明者： 長瀬 克己 ,  高椋 敦嗣 ,  吉田 康夫 ,  美谷 芳雄
出願人/特許権者： 株式会社トクヤマ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-060699
公開番号（公開出願番号）：特開2000-256008
出願日： 1999年03月08日
公開日（公表日）： 2000年09月19日
要約：

【要約】【課題】シリコーン樹脂等に添加した際、樹脂の透明性を損なわず、粘度を低く維持できる疎水性煙霧シリカ。【解決手段】表面が有機珪素化合物により疎水化されてなり、80〜300g/lの嵩密度を有し、単位表面積あたりのOH基が0.5個/nm2以下であり、且つ粒子径45μm以上の凝集粒子が2000ppm以下であることを特徴とする疎水性煙霧シリカ。

請求項（抜粋）：

表面が有機珪素化合物により疎水化されてなり、80〜300g/lの嵩密度を有し、単位表面積あたりのOH基が0.5個/nm2以下であり、且つ粒子径45μm以上の凝集粒子が2000ppm以下であることを特徴とする疎水性煙霧シリカ。

IPC (4件)：

C01B 33/159 ,  C08K 3/36 ,  C08K 9/06 ,  C08L 83/04

FI (4件)：

C01B 33/159 ,  C08K 3/36 ,  C08K 9/06 ,  C08L 83/04

Fターム (24件)：

4G072AA25 ,  4G072BB05 ,  4G072BB13 ,  4G072CC16 ,  4G072DD02 ,  4G072DD03 ,  4G072DD04 ,  4G072DD05 ,  4G072DD06 ,  4G072DD07 ,  4G072GG03 ,  4G072HH19 ,  4G072JJ47 ,  4G072TT01 ,  4G072TT04 ,  4G072TT30 ,  4G072UU09 ,  4J002CP001 ,  4J002DJ016 ,  4J002FB096 ,  4J002FB116 ,  4J002FB146 ,  4J002FB266 ,  4J002FD016

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 樹脂充填材用二酸化珪素微粉末
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-160358   出願人：日本アエロジル株式会社
• 低い構造の熱分解法金属酸化物充填剤の製法及び高分子物質、ゴム、シーラント、コーキング材及び接着剤組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-181614   出願人：デグッサアクチェンゲゼルシャフト
• 無機粉末を疎水性にする効率的な方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-134043   出願人：ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ
• 疎水性微細シリカおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-152382   出願人：株式会社トクヤマ
• 表面処理したシリカゲルの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-183153   出願人：日本シリカ工業株式会社