特許
J-GLOBAL ID：200903033713634914
フォトマスク及びその製造方法並びにそのフォトマスクを用いた露光方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
原 謙三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-115152
公開番号（公開出願番号）：特開平9-050116
出願日： 1996年05月09日
公開日（公表日）： 1997年02月18日
要約：
【要約】【課題】 ハーフトーン膜による高い光コントラストを維持しながら、ステップアンドリピート方式での露光の際の多重露光を防止することを可能とする。【解決手段】 透明基板1上に、ハーフトーン膜2、遮光膜3、及びレジスト4がこの順に成膜されたものに対して、エリア毎に露光量を調節して膜厚差を有するようにレジスト4を除去する。その膜厚差を利用して、ハーフトーン膜2及び遮光膜3に所定のパターンを形成する。このハーフトーンパターンはウェハ上のレジストに転写するためのパターンである。また、遮光膜3は、チップ間を分離するスクライブラインの内側エッジとフォトマスクの外周との間に形成されている。
請求項（抜粋）：
露光光を透過する透明基板と、上記露光光の位相を反転させる反転透過部と露光光の位相を変えない透過部とを有し、上記反転透過部及び透過部によって上記透明基板上にパターンを形成する半透明膜と、エッジがスクライブラインの内側エッジに一致し、スクライブライン上及びスクライブラインよりも外側領域の上記半透明膜上の位置に積層された遮光膜とを有し、上記パターンはすべて半透明膜のみで形成されていることを特徴とするフォトマスク。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
