特許
J-GLOBAL ID：200903033756736346

基板処理装置用ブロック及び基板処理装置

発明者：
上田 一成

上田 一成 について

, 
竹熊 貴志

竹熊 貴志 について

, 
奥村 賢治

奥村 賢治 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (2件)： 井上 俊夫 ,  水野 洋美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-073139
公開番号（公開出願番号）：特開2004-235659
出願日： 2004年03月15日
公開日（公表日）： 2004年08月19日
要約：
【課題】 基板にレジストを塗布し、露光後の基板を現像する塗布、現像装置において、基板を高い精度で所定温度に維持した状態で反射防止膜の塗布処理などを行うことができ、これにより例えば基板上の塗布膜について高い精度で目標膜厚が得られるなど精度のよい処理を行うこと。【解決手段】 基板に所定の処理を施す複数個の処理部と、前記各処理部との間で基板の受渡しを行うための複数個の基板搬送手段とを備えた単位ブロックを複数用いて塗布、現像装置を構成し、前記複数個の基板搬送手段は、処理液で処理された基板を扱う基板搬送手段と、塗布部、現像部または反射防止膜形成部と基板を冷却するための冷却部との間で基板を搬送する専用の搬送手段と、に区別されている構成とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板に一連の処理を施す基板処理装置を構成するための単位ブロックである基板処理装置用ブロックであって、 基板に所定の処理を施す複数個の処理部と、 前記各処理部との間で基板の受渡しを行うための複数個の基板搬送手段と、を備えたことを特徴とする基板処理装置用ブロック。
IPC (2件)：
H01L21/027 ,  H01L21/68
FI (2件)：
H01L21/30 562 ,  H01L21/68 A
Fターム (29件)：
5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031DA01 ,  5F031FA01 ,  5F031FA02 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031HA13 ,  5F031HA37 ,  5F031HA38 ,  5F031HA48 ,  5F031HA59 ,  5F031MA02 ,  5F031MA03 ,  5F031MA24 ,  5F031MA26 ,  5F031MA27 ,  5F046CD01 ,  5F046CD05 ,  5F046JA04 ,  5F046KA04 ,  5F046KA07 ,  5F046KA10 ,  5F046LA01
引用特許：
審査官引用 (5件)
  • 処理システム
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-257596   出願人：東京エレクトロン株式会社
  • 処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-212857   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-233600   出願人：東京エレクトロン株式会社
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM