特許
J-GLOBAL ID：200903033768725480

CVD装置およびCVD装置のクリーニング方法

発明者：
今井 洋一

今井 洋一 について


出願人/特許権者：
松下電子工業株式会社

松下電子工業株式会社 について


代理人 (1件)： 村山 光威
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-036396
公開番号（公開出願番号）：特開2000-235955
出願日： 1999年02月15日
公開日（公表日）： 2000年08月29日
要約：
【要約】【課題】 堆積膜とガスとの反応だけで行う膜エッチングが終了した時点で確実にクリーニング処理を終了させることができるCVD装置及びCVD装置のクリーニング方法を提供する。【解決手段】 内部で物質堆積処理がなされる真空容器1と、真空容器1の内部に堆積した前記物質の成分をエッチングするクリーニングガスを導入するクリーニングガス供給系7と、前記エッチング中の真空容器1内に存在するガスを分析する質量分析器10と、質量分析器10からの質量スペクトル信号強度に基づいて前記エッチングガスの導入を停止するクリーニングガス供給停止機構13を備えたものである。
請求項（抜粋）：
内部で物質堆積処理がなされる容器と、前記容器内部に堆積した前記物質の成分をエッチングするエッチングガスを導入する手段と、前記エッチング中の前記容器内に存在するガスを分析する質量分析器と、前記質量分析器からの質量スペクトル信号強度に基づいて前記エッチングガスの導入を停止する手段を備えたことを特徴とするCVD装置。
IPC (2件)：
H01L 21/205 ,  C23C 16/44
FI (2件)：
H01L 21/205 ,  C23C 16/44 J
Fターム (25件)：
4K030AA03 ,  4K030AA04 ,  4K030AA06 ,  4K030BA20 ,  4K030BA29 ,  4K030BA30 ,  4K030BB01 ,  4K030BB11 ,  4K030CA12 ,  4K030DA04 ,  4K030DA08 ,  4K030HA11 ,  4K030KA39 ,  4K030KA43 ,  5F045AA08 ,  5F045AB04 ,  5F045AB30 ,  5F045AC02 ,  5F045AC05 ,  5F045BB08 ,  5F045BB14 ,  5F045EB06 ,  5F045EE13 ,  5F045EF05 ,  5F045GB02
引用特許：
審査官引用 (6件)
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