特許

J-GLOBAL ID：200903033815381255

ガスハイドレートの製造方法及び製造装置

発明者： 多島 秀男 ,  山崎 章弘 ,  清野 文雄
出願人/特許権者： 独立行政法人産業技術総合研究所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-144726
公開番号（公開出願番号）：特開2004-346184
出願日： 2003年05月22日
公開日（公表日）： 2004年12月09日
要約：

【課題】ガスハイドレートの連続的製法及び装置の提供【解決手段】ガスと水からガスハイドレートを製造する方法において、ガスと液体状のガス及び水を低温かつ高圧力下に混合した後、長方形の板をねじった場合に得られる形状のエレメントと、前記エレメントを管径方向に対して90度向きを変えた状態で結合させる組み合わせを一対とする基本単位のエレメントを、複数固定設置されている管状部分に、ガスと水からガスハイドレートを、高速下に導入した後に、ガスハイドレートとして取り出すことを特徴とするガスハイドレートの製造方法及び装置。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

ガスと水からガスハイドレートを製造する方法において、ガスと液体状のガス及び水を低温かつ高圧力下に混合した後、長方形の板をねじった場合に得られる形状のエレメントと、前記エレメントを管径方向に対して90度向きを変えた状態で結合させる組み合わせを一対とする基本単位のエレメントを、複数固定設置されている管状部分に、ガスと水からガスハイドレートを、高速下に導入した後に、ガスハイドレートとして取り出すことを特徴とするガスハイドレートの製造方法。

IPC (8件)：

C10L3/00 ,  B01J19/00 ,  C01B31/20 ,  C07B61/00 ,  C07B63/02 ,  C07C5/00 ,  C07C7/20 ,  C07C9/04

FI (8件)：

C10L3/00 ,  B01J19/00 A ,  C01B31/20 Z ,  C07B61/00 C ,  C07B63/02 B ,  C07C5/00 ,  C07C7/20 ,  C07C9/04

Fターム (25件)：

4G075AA03 ,  4G075BB05 ,  4G075BD01 ,  4G075BD13 ,  4G075BD22 ,  4G075CA03 ,  4G075CA05 ,  4G075CA65 ,  4G075DA01 ,  4G075DA02 ,  4G075EA06 ,  4G075EB21 ,  4G075EC09 ,  4G075EE02 ,  4G075EE31 ,  4G075FB02 ,  4G075FB06 ,  4G075FB12 ,  4G146JA05 ,  4G146JB04 ,  4G146JC37 ,  4G146JC39 ,  4H006AA05 ,  4H006AC90 ,  4H006AD33

引用特許：

審査官引用 (3件)

• ハイドレートの製造装置および製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-247623   出願人：三井造船株式会社, 東京瓦斯株式会社
• CO▲2▼を包接するクラスレート化合物製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-193393   出願人：石川島播磨重工業株式会社
• ハイドレート製造方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-057540   出願人：石川島播磨重工業株式会社