特許
J-GLOBAL ID：200903084130159952
ハイドレートの製造装置および製造方法
発明者：
,
,
,
,
,
,
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
石井 博樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-247623
公開番号（公開出願番号）：特開2003-055676
出願日： 2001年08月17日
公開日（公表日）： 2003年02月26日
要約：
【要約】【課題】 ハイドレートを輸送、貯蔵するのに適した所定濃度で流動性のあるハイドレートスラリーを効率的に製造する手段を提供すること。【解決手段】 水53とガス55とを加圧下に冷却しながら混合してハイドレート51を生成させるハイドレート製造装置100は、水53を加圧して供給する水供給ポンプ13から、ハイドレート51を貯留する貯蔵槽19までを接続するパイプライン21に、ガスを加圧して供給するガス供給ポンプ17と、水53およびガス55の混合物を流送させながら反応させてハイドレートスラリーを生成させる所定長さのスラリー生成部23と、スラリー生成部23を冷却するための冷却手段として熱交換機25を備えている。
請求項（抜粋）：
水とハイドレート形成物質とを加圧下に冷却しながら混合してハイドレートを生成させるハイドレート製造装置であって、水を加圧して供給する水供給手段から、ハイドレートを貯留する貯蔵部までを接続するパイプラインに、ハイドレート形成物質を加圧して供給するハイドレート形成物質供給手段と、前記水およびハイドレート形成物質の混合物を流送させながら反応させてハイドレートスラリーを生成させる所定長さのスラリー生成部と、該スラリー生成部を冷却する冷却手段とを設けたことを特徴とする、パイプライン式ハイドレート製造装置。
IPC (6件)：
C10L 3/06
, C07B 61/00
, C07B 63/02
, C07C 5/00
, C07C 7/20
, C07C 9/04
C07B 61/00 C
, C07B 63/02 B
, C07C 5/00
, C07C 7/20
, C07C 9/04
, C10L 3/00 A
4H006AA02
, 4H006AA04
, 4H006AC90
, 4H006AD33
, 4H006BD60
, 4H006BD82
