特許
J-GLOBAL ID：200903033872817035

マスク、マスクの製造方法、微細構造体の製造方法、及び液晶ディスプレイの製造方法

発明者：
關 秀也

關 秀也 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (1件)： 上柳 雅誉 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-091340
公開番号（公開出願番号）：特開2002-287325
出願日： 2001年03月27日
公開日（公表日）： 2002年10月03日
要約：
【要約】【課題】 曲面加工を含む複数の内容から成る微細加工を、1回の露光工程で可能とする。【解決手段】 第一の加工内容及び第二の加工内容に相当するマスクデータを個別に作成した後、多層マスクの各層、あるいは多値マスクの別々の透過率範囲、あるいは2値マスクの別々の面積範囲にそれぞれを記録する。加工内容が3次元形状の場合は、各データを露光系の最小分解能より小さいドットのオン・オフで記録してもよい。これにより1枚のマスクで複雑な3次元形状が容易に加工可能となる。
請求項（抜粋）：
加工装置にセットされ、被加工体に対する加工効果が蓄積される加工媒体の透過量を制御可能なマスクにおいて、第一の透過率を有する第一の層と第二の透過率を有する第二の層より構成され、前記第一の層及び第二の層のパターンの組み合わせにより3段階に前記加工媒体の透過量を制御可能な3値マスクであって、前記第一の層及び第二の層には、前記加工装置、前記被加工体および前記加工媒体の少なくとも何れかによって定まる最小分解能より小さい面積単位のドットのオン・オフの面積比率で前記加工媒体の透過量を制御するような異なるパターンが形成されていることを特徴とする3値マスク。
IPC (5件)：
G03F 1/08 ,  G02B 5/08 ,  G02F 1/1335 510 ,  G02F 1/1335 520 ,  H01L 21/027
FI (7件)：
G03F 1/08 A ,  G02B 5/08 A ,  G02B 5/08 B ,  G02B 5/08 C ,  G02F 1/1335 510 ,  G02F 1/1335 520 ,  H01L 21/30 502 P
Fターム (15件)：
2H042DA02 ,  2H042DA10 ,  2H042DC08 ,  2H042DD01 ,  2H042DE04 ,  2H091FA08X ,  2H091FA08Z ,  2H091FA14Z ,  2H091FA26X ,  2H091FA41Z ,  2H091GA11 ,  2H091LA30 ,  2H095BB02 ,  2H095BB12 ,  2H095BC09
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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