特許
J-GLOBAL ID：200903033876519748
露光装置の制御方法および装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
一色国際特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-318701
公開番号（公開出願番号）：特開2004-153163
出願日： 2002年10月31日
公開日（公表日）： 2004年05月27日
要約：
【課題】多品種に適用可能な、高精度なレジスト感度測定法、および製品ウエハでもモニタ可能な感度測定法を提供する。【解決手段】感光剤の塗布された基板の異なる領域を異なる露光量で露光するステップと、該基板上における該感光剤の現像中の膜厚変化を測定するステップと、該異なる露光量毎の該膜厚変化から露光量に対する現像速度変化を求めるステップと、該現像速度変化と、回路パターン、露光レンズの波面収差、露光レンズ瞳面上の光源像形状、現像時間、および該感光剤の膜厚から該回路パターンの所望線幅を得るための露光量を算出するステップと、該露光量を露光装置にフィードバックするステップと、を有することを特徴とする露光装置の制御方法。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
感光剤の塗布された基板の異なる領域を異なる露光量で露光するステップと、
該基板上における該感光剤の現像中の膜厚変化を測定するステップと、
該異なる露光量毎の該膜厚変化から露光量に対する現像速度変化を求めるステップと、
該現像速度変化と、回路パターン、露光レンズの波面収差、露光レンズ瞳面上の光源像形状、現像時間、および該感光剤の膜厚から該回路パターンの所望線幅を得るための露光量を算出するステップと、
該露光量を露光装置にフィードバックするステップと、
を有することを特徴とする露光装置の制御方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/30 516D
, G03F7/20 521
, H01L21/30 562
5F046AA28
, 5F046DA02
, 5F046DA14
, 5F046JA21
, 5F046LA19
