特許
J-GLOBAL ID:200903034007206140

ポリッシング装置及び研磨パッド並びにその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 渡邉 勇 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-062270
公開番号(公開出願番号):特開2003-068686
出願日: 2002年03月07日
公開日(公表日): 2003年03月07日
要約:
【要約】【課題】 光学式センサによる膜厚の測定を正確に且つ安定して行なうことができ、被研磨物のスクラッチを防止することができる研磨パッドを提供する。【解決手段】 光を透過させる透光窓部材41を配置するための窓孔11aが形成された上層パッド11と、上層パッド11の窓孔11aに連通する通光孔12aが形成された下層パッド12とを有する研磨パッド10であって、上層パッド11と下層パッド12との間に、上下面に接着剤が塗布された透明接着フィルム13を配置した。また、上層パッド11の窓孔11aと下層パッド12の通光孔12aとの大きさを略同一とした。
請求項(抜粋):
光を透過させる透光窓部材を配置するための窓孔が形成された上層パッドと、前記上層パッドの窓孔に連通する通光孔が形成された下層パッドとを有する研磨パッドであって、前記上層パッドと前記下層パッドとの間に、透明フィルムを配置したことを特徴とする研磨パッド。
IPC (4件):
H01L 21/304 622 ,  H01L 21/304 ,  B24B 37/00 ,  B24B 37/04
FI (4件):
H01L 21/304 622 F ,  H01L 21/304 622 S ,  B24B 37/00 C ,  B24B 37/04 K
Fターム (7件):
3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058AC02 ,  3C058BA07 ,  3C058CB01 ,  3C058DA13 ,  3C058DA17
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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