特許

J-GLOBAL ID：200903034015329324

基板処理装置

発明者： 荒木 浩之 ,  大串 竜太郎 ,  永見 宗三
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-359357
公開番号（公開出願番号）：特開2004-193329
出願日： 2002年12月11日
公開日（公表日）： 2004年07月08日
要約：

【課題】パーティクルが処理槽内に滞留することがなく、しかも、洗浄時に基板に不要な振動を与えることのない基板処理装置を提供する。【解決手段】基板に少なくとも洗浄処理を施す基板処理装置であって、処理槽1にその底部から洗浄液(純水)を導入するとともに、余剰の洗浄液を上部からオーバーフローさせながら処理槽1内の基板Wの洗浄を行う過程で、洗浄液の供給流量を時間的に変化させることにより、槽内に流れの淀みが発生するのを防止してパーティクルの排出効果を上げる。また、槽内の洗浄液を急激に排出しないので、基板Wに不要な振動を与えることもない。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

基板に洗浄処理を施す基板処理装置であって、 底部から洗浄液を導入されるとともに、余剰の洗浄液を上部からオーバーフローさせる処理槽と、 前記処理槽に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、 前記処理槽内に基板を投入して洗浄処理を施している過程で、前記洗浄液供給手段からの洗浄液の供給流量を時間的に変化させる流量制御手段と を備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (6件)：

H01L21/304 ,  B08B3/04 ,  B08B3/10 ,  G02F1/13 ,  G02F1/1333 ,  H01L21/027

FI (6件)：

H01L21/304 648G ,  B08B3/04 Z ,  B08B3/10 Z ,  G02F1/13 101 ,  G02F1/1333 500 ,  H01L21/30 569B

Fターム (17件)：

2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H090JB02 ,  2H090JB04 ,  2H090JC19 ,  3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201BB04 ,  3B201BB82 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  5F046LA03 ,  5F046LA09 ,  5F046LA12 ,  5F046LA13 ,  5F046LA14

引用特許：

審査官引用 (3件)

• ウエハ洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-054658   出願人：ソニー株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-338036   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-084951   出願人：エス・イー・エス株式会社, 株式会社金門コルツ