特許
J-GLOBAL ID：200903053564885810
基板処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-338036
公開番号（公開出願番号）：特開平10-177979
出願日： 1996年12月18日
公開日（公表日）： 1998年06月30日
要約：
【要約】【課題】 基板の水洗処理における水洗パターンを容易に変更,設定することが可能な基板処理装置を提供すること。【解決手段】 予め記憶ディスク23に複数種類の水洗パターンを記憶保持しておく。基板処理に先立って、CPU21は記憶ディスク26に記憶されている複数種類の水洗パターンをディスプレイ26に表示する。オペレータはディスプレイに表示された複数種類の水洗パターンから所望の水洗パターンを選択し、それに対応する記号等をキーボード27より設定入力する。また、オペレータは水洗槽において水洗処理に要する総合の処理時間を入力する。これによって、CPU21は選択された水洗パターンにおける水洗サイクル回数を自動で算出し、槽コントローラ30に送信する。
請求項（抜粋）：
基板に対して洗浄処理を施すための水洗槽と、前記水洗槽に対して純水を供給する純水供給手段と、前記水洗槽に設けられた排水手段と、前記純水供給手段と前記排水手段とを動作制御する制御手段と、前記水洗槽における基板の複数種類の処理手順を予め記憶しておく記憶手段と、前記複数種類の処理手順から実際に基板処理の際に行う処理手順を選択する選択情報を入力する入力手段と、を備え、前記制御手段は前記入力手段より入力された前記選択情報に対応する処理手順を前記記憶手段から読み出し、当該処理手順に基づいて前記純水供給手段と前記排水手段とを動作制御して前記水洗槽における前記基板の水洗処理を行わせることを特徴とする基板処理装置。
引用特許：
前のページに戻る
