金属膜加工残り検査方法および金属膜加工残り検査装置およびそれを用いた薄膜デバイスの製造方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴木市郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-146372
公開番号（公開出願番号）：特開2003-338493
出願日： 2002年05月21日
公開日（公表日）： 2003年11月28日
要約：

【要約】【課題】パターン形成される金属薄膜の平坦化加工後の金属膜加工残りを、自動的に的確に検査できるようにすること。【解決手段】光学的に透明な薄膜と金属薄膜が混在する試料に光を照射し、該光の照射により試料から発生する反射光を検出し、該検出した反射光の反射強度もしくは反射率に基づいて、CMP後の金属膜加工残りの有無を判定する。

請求項（抜粋）：

光学的に透明な薄膜と金属薄膜が混在する試料に白色光または単色光を照射し、該白色光または単色光の照射により前記試料から発生する反射光を検出し、該検出した反射光の反射強度もしくは反射率に基づいて、金属膜の平坦化加工後の金属膜加工残りの有無を検出することを特徴とする金属膜加工残り検査方法。

IPC (5件)：

H01L 21/3065 , B24B 37/04 , H01L 21/02 , H01L 21/304 621 , H01L 21/304 622

FI (5件)：

B24B 37/04 K , H01L 21/02 Z , H01L 21/304 621 D , H01L 21/304 622 S , H01L 21/302 103

Fターム (8件)：

3C058AA07 , 3C058AC02 , 3C058CA01 , 3C058CB03 , 3C058DA12 , 5F004CB09 , 5F004CB15 , 5F004CB20

引用特許：

審査官引用 (5件)

メタル残膜判定方法およびメタル残膜判定装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-136786 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
機械化学研磨装置用の平坦化過程モニター装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-014042 出願人：オリンパス光学工業株式会社
薄膜の膜厚計測方法及びその装置並びにそれを用いた薄膜デバイスの製造方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-121251 出願人：株式会社日立製作所

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