分割逐次近接露光装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：森哲也 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-309911
公開番号（公開出願番号）：特開2001-125284
出願日： 1999年10月29日
公開日（公表日）： 2001年05月11日
要約：

【要約】【課題】従来にない高精度の分割逐次近接露光装置を低コストで提供する。【解決手段】被露光材に対し平行光を照射するパターン露光用の照明光学系を備えた露光手段3と、被露光材を載置するワークステージ2と、マスクを載置するマスクステージ1と、前記マスクを被露光材上のつなぎ露光位置に対向させるようにワークステージ2とマスクステージ1とを相対的に位置決めするステージ送り機構7と、前記マスクと被露光材との対向面間のすき間を調整するギャップ調整手段6と、ステージ送り機構7による送り方向を基準としてマスクの向きをパターン面内で調整するマスク位置調整手段14とを備え、前記マスク又は前記ワークステージ2に、つなぎ方向と略直交する方向に互いに離間配置された一対のアライメントマークを前記つなぎ方向に所定の間隔をあけて複数対設ける。

請求項（抜粋）：

被露光材に対し平行光を照射するパターン露光用の照明光学系を備えた露光手段と、被露光材を載置するワークステージと、マスクを載置するマスクステージと、前記マスクを被露光材上のつなぎ露光位置に対向させるようにワークステージとマスクステージとを相対的に位置決めするステージ送り機構と、前記マスクと被露光材との対向面間のすき間を調整するギャップ調整手段と、前記マスク及び前記ワークステージにつなぎ方向と交差する方向に互いに離間配置された一対のアライメントマークと、マスク側アライメントマーク対とワークステージ側アライメントマーク対の平面ずれ量を検出するアライメントマーク検出手段と、前記ステージ送り機構による送り方向を基準としてマスクの向きをパターン面内で調整するマスク位置調整手段と、前記アライメントマーク検出手段によって検出された平面ずれ量に応じて前記マスク位置調整手段を駆動制御してマスク側アライメントマークとワークステージ側アライメントマークとを整合させる制御手段とを備え、前記マスク側のアライメントマーク対及び前記ワークステージ側のアライメントマーク対の内の少なくとも一方のアライメントマーク対をつなぎ方向に所定の間隔をあけて複数対設けたことを特徴とする分割逐次近接露光装置。

IPC (2件)：

G03F 9/00 , H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 9/00 Z , H01L 21/30 511

Fターム (15件)：

2H097GA45 , 2H097KA02 , 2H097KA12 , 2H097KA13 , 2H097KA15 , 2H097KA28 , 2H097LA12 , 2H097LA17 , 5F046AA04 , 5F046BA02 , 5F046EA04 , 5F046EB01 , 5F046EB02 , 5F046ED01 , 5F046FC06

引用特許：

審査官引用 (19件)

特開昭60-180120
特開昭60-180120
特開昭60-168147

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