特許
J-GLOBAL ID：200903041919685577
分割逐次近接露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森 哲也 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-307426
公開番号（公開出願番号）：特開2000-035676
出願日： 1998年10月28日
公開日（公表日）： 2000年02月02日
要約：
【要約】【課題】従来にない高精度の分割逐次近接露光装置を提供する。【解決手段】被露光材を照射するパターン露光手段3と、被露光材を載置するワークステージ2と、マスクを載置するマスクステージ1と、該ワークステージ1を位置決めするワークステージ送り機構7と、マスクと被露光材のギャップ調整手段6とを備えた近接露光装置において、ワークステージ送り機構7による送り方向を基準としてマスクの向きをパターン面内で調整するマスク位置調整手段14を備えている。
請求項（抜粋）：
被露光材に対し平行光を照射するパターン露光用の照明光学系を備えた露光手段と、被露光材を載置するワークステージと、マスクパターンを有するマスクを載置するマスクステージと、前記マスクパターンを被露光材上の所定位置に対向させるようにワークステージとマスクステージとを相対的に位置決めするステージ送り機構と、前記マスクと被露光材との対向面間のすき間を調整するギャップ調整手段とを備えた近接露光装置において、前記ステージ送り機構による送り方向を基準としてマスクの向きをパターン面内で調整するマスク位置調整手段を備えたことを特徴とする分割逐次近接露光装置。
IPC (4件)：
G03F 7/22
, G02F 1/13 101
, H01L 21/027
, H05K 3/00
G03F 7/22 Z
, G02F 1/13 101
, H05K 3/00 H
, H01L 21/30 511
